The US-China chip war! Without EUV machines, hasn't China also advanced into the 7nm realm?
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- Опубликовано: 20 июн 2024
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00:00 製程大廠搶著導入 EUV
00:35 微影製程五步驟
01:32 台積電領先製程的光罩潔淨技術
01:57 基於光學成像原理的微影製程
03:02 技術含量需求最高的曝光技術
05:33 搭配 EUV ，晶片才能越做越小
07:09 中芯竟然利用舊技術 DUV製作了7奈米晶片
09:16 技術超前！0.7 奈米晶片面世
// 延伸閱讀 //
噔噔愣噔愣～縮小術！用光學微影把 IC 晶片變小了
pansci.asia/archives/353519
半導體的「平面製程」--《掀起晶片革命的天才怪咖：蕭克利與八叛徒》
pansci.asia/archives/351843
半導體廠奈米級的奇「積」！科學家挑戰突破電晶體大小的極限
pansci.asia/archives/315856
改變在一「矽」之間--半導體的誕生│《電腦簡史》數位時代（十六）
pansci.asia/archives/317557
// 參考資料 //
research.sinica.edu.tw/optica...
scitechvista.nat.gov.tw/Artic...
ec.ltn.com.tw/article/breakin...
case.ntu.edu.tw/blog/?p=28125
iknow.stpi.narl.org.tw/post/R...
eip.iner.gov.tw/msn.aspx?data...
technews.tw/2021/02/15/euv-ma...
// 製作團隊 //
主持：泛科知識 #鄭國威知識長
企劃：王喆宣
腳本：李斑斑
剪輯：蘇庭緯 
Наука
反射鏡片是德國蔡司公司做的，每個反射鏡底材是用雷射加Plasma精密加工，然後再鍍上至少50層每層5~6nm厚度矽鉬材料，表面平整度比韋伯望遠鏡的反射鏡片還要高，並且最後倒數第二片反射鏡(Hi-NA EUV增大NA用途關鍵)是帶有弧度的，弧形精密度到達奈米級弧度精密程度，角度還要經過精密計算，否則極紫外光會被吸收減弱，並且面積超大，就是給你30年，你也做不出來。
第二個難關是極紫外光產生器，這是要用功率極高且壽命超長的雷射產生器，以每秒50000次用雷射射擊錫滴，每個錫滴射擊兩次來產生極紫外光。 你是要怎麼控制高溫熔融錫滴的產生與滴漏? 每兩個錫滴間的時間間隔控制? 每個錫滴的大小的控制? 雷射光源的穩定性控制? 可以每天24小時工作? 如何散熱? 一大堆專利你能破解? ASML為了找到最適當的極紫外光源，前後花了 共計超過10多年，連同步輻射高能加速器都研究過，你在這世上已經絕對找不到其他的任何方法了，不幸的是ASML已經把所有相關的專利申請完了外， 就是給你抄，你也抄不出來。光用嘴巴說些打雞血的話，沒個毛用。
第三個難關是空白光罩，這也是日本寡佔的領域，製作原理跟反射鏡類似，但是難在要經過仔細計算避免3D效應，這又一個獨門技術，世上也沒超過三家能做。
第四個難關是光阻劑，這個之難難如登天，也是日本寡佔的領域。 每個先進製程節點所使用的光阻劑配方都不同，並且在研發階段就要用EUV機台作驗證，試問那個客戶願意把上億美金的EUV機台挪出來給你試? 並且一試就要至少半年到一年，光試你的光阻劑廠家就要賠上多少錢與時間? 看看韓國自己要作EUV光阻劑的結果，就知道為甚麼三星的良率如此差。
第五個難關是雙工作平台，在高速40G加速度的輪動下，整體的位移偏差加上機台的誤差，其覆蓋誤差(overlay Error)不到2nm，看看上微作的機台Overlay誤差是多少? 近90nm誤差。
大家一直以為ASML只是做曝光機的廠商，這是大錯特錯。ASML所提供給客戶的是所有曝光相關的問題一站解決者，他除了曝光機外，還有光學與電子束檢驗機，外加Brian大數據分析AI系統，OPC光罩修正驗證軟體系統，能夠將所有曝光相關的Defect，包括光阻劑塗布厚度，軟/硬烤，蝕刻前後檢驗與光罩圖形OPC修正都整合在一起，提供工程師修正所有EUV曝光問題，光憑這一點，給你30年，你也是做不出來。
ASML所有產品，包括EUV，DUV，DUVi，光學檢驗機，電子束檢驗機，OPC光罩修正及檢驗軟體，大數據統計分析AI系統，整體才算是一個完整的體系，而曝光機僅是其中一部分而已。 沒這個體系建立起來，你就是有幾台EUV曝光機在手，一樣也會是一堆廢物，懂嗎? 這是超過30多個國家近600家最厲害的供應商，齊心合作打造出來的體系，世上再也找不出來第二家。 有緣的人如果能去Connecticut Wilton看過ASML在美國的組裝廠，你就知道所言無虛。
PS. 回頭再加一段
台積電是不可能自己發展EDA的，台積電本身只會提供EDA廠加他的PDK，Design Reference Manual，Design Rules，SPICE得出的資料等，供給IC設計者在用EDA設計中的模擬，驗證。 EDA沒這些半導體廠商提供的這些資料，他只能設計個渣出來，比廚餘垃圾還不如。
台積電最適合做與EDA相關的工作，就是開發各製程的IP模組，並且先上過自己的產線做過驗證，再以有償或無償方式提供給客戶設計晶片時採用，以節省客戶設計時間並保證有高良率產出，這就無形中增加了台積電在同業間的競爭力，例如有關ARM架構相關的硬核IP，台積電擁有的數量就是世界前幾名，這也是三星與Intel遠遠敢不上台積電一個隱形原因。 要知道光一個5nm製程稍微複雜的IP，其價格就要超過500多萬美金，做一個精密5nm晶片從設計初始到留片前，沒花你個5，6億美金簡直就是笑話，所以三星那個幫盤矽作的3nm晶片，基本上就是一個笑話，當現在有那個廠商把它當回事在看? 有嗎?
發展EDA工具你沒有超過30多年以上的投入，你想發展一個全面性應用的EDA，那就是在說夢話與傻話。一個完整的EDA工作不是單僅有Functional，Timing，Power，Thermal，Reliability，EM模擬驗證就夠了，要作到SoC還要加入Mechanical，Moldflow等等，試問誰有這麼多方面的人才與實驗數據? 這頭部三間大的ESDA也是沒有，全靠這20多年來的併購其他專業公司來完成的，美加源工人射都在萬人以上，每年研發費用就佔了40%營收以上，專利完全被它們給霸佔了，後來者多半只有吃土的份，除非你在這裏面某一小段技術中有你獨強的能力。在製作光罩圖案GDSII時，你也要用到OPC修正與驗證工具。另外就是要與半導體廠合作，在半導體各個製程相關的規格與設計規範，與之驗證，Debug，Update，這一來一往的時間與投資也是非常可怕的，沒經年累月彼此的合作，那個客戶敢用你的EDA工具? 一個先進製程精騙我前面說過要花費多少鈔票，你只會做一個晶片嗎? 當然不會只做一個晶片，所以你敢用一些沒經過驗證的EDA工具嗎? EDA工具是有生命的，他會隨遮時間，半導體製程的前進，技術的改進，一直升級中，不會有中斷情況，所以EDA廠家的投資也是會一直加碼，這也是EDA廠家的經營管理的難處之一。
不要以為買了個EDA工具就萬事大吉，設計出晶片就可以指日可待，沒這些工具與半導體的切合，你是啥都做不出來。 沒這些後續升級，客戶就立刻在技術上落伍了。所以只要在半導體廠相關技術資料，IP設計商，Auto-layput，DRC，DM把你給掐住，你就立刻吃土去了。 懂行的就知道我在說什麼。
Highly likely it is no Chinese allow.
好強
这30年做不出来 那30年做不出来 ~呵呵 结果几年甚至几个月就被打脸~ 你也不看看30年时间中国已经攻下了多少个西方技术板块了！现在还剩啥？欧美慌的一批~只有台湾在沾沾自喜！
講那么多，小学生需要懂吗？
我看了什麼😅
以科普的角度而言，這影片真的很棒！
讀者不同，閱讀需求也不同，普羅大眾求入門好懂不枯燥，業內專家多習慣自詡為師捨我其誰。影片的製作不可能討好所有閱讀群體，自我定位清楚即可….
教專領英與晦澀轉白都是專業，都是對半導體產業重要的貢獻！
非常感謝你的喜歡跟支持！
別忘了台積電那邊技術是偷中國浙江的,正如台一吧一子的蚵仔煎,滷肉飯也是偷中國的😏
@Man sky 破解是物理學家的事情了吧，科研人員光是內卷都不夠人手了
才发现这个科普up真不错，关注订阅先
專業又易懂的影片
對行外人不是很重要，不過 4:14 G-line (436nm) 在演進到 DUV 之前還有經過一個 I-line (365nm)，而 DUV 光源也有分 KrF (248nm) 跟 ArF (193nm)
感謝細部分享，確實我們省略了一些更先前的DUV光線，謝謝補充。
專業
@fanns 科普影片不取材不然是要創作嗎? 人家至少蒐集資料製作影片，讓大眾入門再自行精進，良性留言指教都是好事，就你在出張嘴，有點文化好嗎
@@cattommy6839
1450你又來亂了喔！👎👎👎👎👎👎👎👎👎👎👎
@fanns 你是說習近平嗎？
合作共贏一直是台灣的生意法則
DUV 光源 ArF (193n) 有immerison and dry 193nm, immersion 是一個很重要的里程碑
我無法精準描述對此頻道的敬佩，你們搜集的資料跟文案的撰寫，都非常非常用心跟專業！將來我會把按讚的次數都留給你們！
謝謝支持！
聽到曝光機就先點讚
我認為專精才有競爭力才能跟大家一同合作交流
台企先前的策略都是一條龍服務產品都鳥鳥的，現在都轉為專業分工合作，術業有專攻唯有掌握關鍵技術才能佔一席之地
科普頻道講到這樣，厲害欸👍
多謝，讓我有了個初步的認識。
很棒，讓我們這種非領域內的人可以初步理解半導體製程！
他讲的这些步骤，程序，设备，软体。。。。
不是ybr，至少要有相当物理化学机械。。能力才可能了解。
可以这么说，在yt这边，至少99%的人看不懂。
發展越多自己原料別人越不可能下單給你，沒人想把雞蛋放同一籃子。也不想再養出另一個三星 中芯 華為 紫光集團。
@@search1788 雖然我們不懂製成
但是我們胡瓜
@@search1788这有这么难吗😅
@@search1788 還好有點看得懂, 跟底片曝光顯影蝕刻原理類似.
說真的! 半導體技術真的替台灣撐起一片天! 但製造的區位移轉也並非不會發生，我們還是應該要思考下一個製造方向，或者商業模式
現在日本都加入晶片聯盟了。
回到祖国，那样国内就不会大力扶持其他镜片制造企业。否则韩国再过几年命运就是台湾地区的命运，韩国对华最高顺差三四百亿，现在第一季度变成逆差几十亿😂，韩国引以为傲的造船汽车芯片屏幕，都在被大陆吃，市场经济，你不会真以为同样是儒家文化圈的不如日韩吧😂，慢慢来，再过几年再看看😂先吃韩国高端再吃日本最后跟老美在人工智能和高端产业决一胜负，不过老美现在仅仅依靠外来人才而没有本国实体制造业，恐怕难以为继。过
十年我们再看看
光是說「曝光機」而非「光刻機」，這部影片就值得給讚！
以製作過程的刻蝕程序，光刻比曝光更符合事實。 正如說晶片而非芯片，皆因電晶體之故。
曝光就是曝光機 晶片就是晶片 不要混為一談
曝光機的作用就是曝光而已啊 後面才用化學藥劑把曝光後的顯影劑洗掉 說光刻機就是把曝光跟顯影混在一起談了
美國的美光亦成功研發出一種名為 1beta 的半導體製程，僅以 DUV 光刻機就能臻 EUV 光刻機的效果。
Dram的製程不能跟ic代工比
希望可以了解比較新製程的封裝技術 ： ）
不要泄露高端技术给危险国家
偶爾看到公司的產品被介紹還是蠻高興的。感謝您持續製作精良的影片讓普羅大眾能逐漸理解半導體。
07:09 一點淺見分享：你的影片動畫內容是正確的 (Spacer, hardmark..etc)，技術正確名字叫多重成像 (Multiple Patterning), 使用多次塗層與多次曝光，甚至還用到其他製程 (ex. Thin Film)才拼湊出一層電路，因此k1可以做到0.25的限制，實務上以193nm的產品製程來說，應該無法直接做出40nm以下的線寬 (測機可以)。通常兩種技術會並用，但是兩者不應該混淆。
感謝專業回饋！
很中立，很公道。赞一个！
居然沒說長波光因為繞射性關係，微影像的邊緣會暈開而無法投映細小的影象。
太專業了
目前3nm要進入量產還有得拼，看看那精美的yield跟搞不完的issues就知道了，每天都被defect弄到一個頭兩個大
台積電三奈米今年九月就開始量產了，二奈米廠也在桃園動工預計2025年投入量產，這是台積電公佈的，更可貴的是沒人認為台積電吹牛逼
淺顯易懂👍
謝謝！
其實5nm也可以做出來的,只是放大看後可以明顯看出品質的差異,最重要的還有良率不佳喔
良率只是成本，将台积电利润转嫁为成本，有问题吗？
@@josephguo6256 成本高，就沒競爭力，你了解嗎？
@@user-bt8qc1nk4h 华为高端手机都快要死了，除了中芯国际还有别的选择嘛
其實你有點在講幹話
@@user-bt8qc1nk4h 有没有可能这些成本有政府买单，补贴了3000千多亿人民币（2万亿台币）
重發我就再看一次😂
我想說怎麼在看一次XD
感謝強力支持啊啊啊啊啊！
很詳細
外行看熱鬧，內行看門道。就像我也能做火箭太空梭，只不過是紙做的罷了！
台灣繼續專注不與客戶競爭與依約守約的正直誠信。
拜托，去看看那几家白手套趺成什么样了。赚钱无国界是我们的宗旨。
@@jimmytsai9057 用市場吊外商小白再偷矇拐騙技術加脅迫轉移，恥度無國界，是忠國靠開放三十年取得巨大紅利背後的民族性。
三星也不是因為跟客戶競爭才失去定單，不與客戶競爭這只是台廠整天很愛說的話
@@chiyanlai1566 商業模式固然是當初創新的根源，但是30年了還持續在磨這一劍，磨到如此技高一籌，靠的還是客戶信任跟自己心無旁騖堅持本業。
@@chiyanlai1566 你要是真這麼想，你就這麼以為吧
超級用心的影片！已訂閱
辛苦了！
It's amusing to watch this tube made a year ago.
The result is not what people previously expected.
Won't be surprised they can come out with their first generation EUV or an alternative exposure technology.
這影片是目前做的最好的半導體影片
@Seayin 不至於吧，如果這個是抄襲的話那很多大學生的論文應該都被退回了，就連我高中做小論文的時候就有看過這些資料了。
@Seayin 那也要有證據證明他們的材料是盜來的 不然口說無憑
@Seayin
右上角都有畫面出處喔
你可能沒看過「曲博科技」……
@@wyc2462 那些資料的來源都一樣，所以做出來的東西都會有一定程度的相似度，反之如果兩個人做出來的東西不一樣的話就代表雙方其中一方的結果是錯的或者是兩者的結果都是錯的。如果連資料來源也要限制的話可能上百年才會有一部影片了，因為企業第一手放出來的資料會先被學術單位研究過，然後因為不能用同個資料，等到下一波同性質的資料釋放時才能被用在這支影片。
解說的超高水準….
謝謝支持！
NIL（納米壓印）也許能取代光刻機。中華民國能否研發它？
GG好像有協助改良國內廠光阻劑的效能，是否達到GG的標準，是一個未知數。
台灣之前也有發展EDA, 但最後公司被買走了
台湾以前不还有VIA吗？via 拥有x86指令集，最后不也垮了？
说到底还是要看美国人的脸色。
IDE也没法发展起来啊
看市场的脸色
是我錯覺還是跨越了時空，怎記得幾天前看過這影片?
是的，之前有公告要取得部分畫面引用的版權，修改後重新上架。
沒錯，這支影片穿越時空了（誤
我們調整部分畫面，重新上線了
時辰到了
我是外行人 這是不是跟以前的IC電鍍版一樣 就是一層一層的電路 所以越細的體積電路就越細
原本是世界分工, 各自利用自身的長處促進世界進步. 現在是大家都想要自己做全套，浪費時間及精力呀！
政治工程
逆全球化阿 你不自己一條龍 會被敵國卡脖子 美國現在也在搞一條龍了
全球化和没有中国的全球化……怎么可能都做全套……你让美国人坐流水线上第二天就罢工了
@@user-rs3os2el8h 美国直接要挟盟友啊，吃相不难看吗？
我認為台灣晶片代工的領先是要繼續保有新鮮的肝的來源。
十萬青年十萬肝，肝肝辛苦救台灣
在台积电工作很累吗？
我做過飲料店 麥當勞 補習班老師 家教 其他生意 台積18A黃光(EUV)工程師
說真的台積的累根本進去過的人才能體會.....不只是工時長而已.....
@@ajay30572 後半句是 GG輪班救台灣
@@user-qv7pz4jr9e 爆炸累，長工時、高工作壓力、有些部門還有ON CALL，能在裡面撐10年的多數是兩類，一者是人員升遷一者抗壓強的超人。
來个(原子間距傳送打印法）做芯片吧
多重曝光确实能够增强解析度，但是代价是多出好几倍的工程量和时间。技术上是可行的，但是成本变高了
的確是這樣
沒寫‘’光刻機‘，就給讚。’
原來華為的60系列手機就是這樣來的，泛科學真是神預言~!
台灣需源源不斷的提供新鮮的肝！😊
乾脆用貝塔電子束替代紫外線吧。
真的是外行人看熱鬧，內行人看門道！😂
專業領域人才，優秀！
專注自己已經領先的 (製造、封裝、設計), 擴大領先, 已形成對其他技術的制衡
台灣搞EDA, 韓日中會用嗎? 沒有市場撐不起技術
搞化學, 自給自足, 這個還算有搞頭
搞設備, 門檻太高
主要是 用了台湾的设备也逃不过美国的制裁（
國際市場白熱化的發展下，晶片產業已然轉變爲資本的角逐，即使是經濟發達的日本韓國也無法支撐起昂貴的晶片產業
@@taekmingang4149 丢了美国市场自己吃芯片？
@sunny su 7 個月前
樓主的意思很簡單
就是如果你要走一樣的路
技術資料都給你
沒有全世界頂尖的廠商配合
給你50年都做不到
但你有其他的路可以走嗎?
或是說走其他的路有比較快?
其實我希望有
這樣世界又往前邁向一大步了
技术发展很快,很广泛,视频所說的很快過时。
這個是台積電內訓的教學吧！
同學們，開課啦！
我覺得比我一年前進去的內部資料還容易搞懂哈哈~~~
中芯那個多次曝光的並不是秘密！只是這樣成本大幅的上升，良率影響很大
😮😮😮
废话，良率是对成本，不是对有没有？记住，大国芯片利润比天高，中国能生产，良率算什么，利润减少而已。打死对手，霸占市场，良率可以不理，这是商业，不是科技研发，知冇？天天用良率自我安慰，无聊。
讚👍！
1 : 6:09 為什麼還要找有效的材質? 不是有反光鏡 難道是機台可以再縮小
2 : 荷蘭有製造EUV的方法 怎麼自己沒有在研發晶片
半導體製程需要幾百種設備，幾千道工序，光有曝光機，檢驗機是沒辦法做出晶片來的。
做的出來是一回事，能量產又是另一回事
就算硬把產線弄出來，良率吧15%是一回事，良率85%完全是另一回事。
@@gaexcd 他們只要夠武器晶片可用就好
@@tsan-yuchung9049 武器芯片要个屁的7nm
有和没有那可是两回事，能做出来，剩下的就是改良工艺和技术，做不来，良品率又有什么用
@@huangshabaizhan326 現實工業中製程是很重要的。一樣研磨鏡片，實驗室的話可以用最慢的作法邊研磨邊量測校正，精度可以超過蔡司這些大廠，但效率極差根本無法量產。那些大廠就是在長期的生產累積經驗後掌握了又快又精確的製程。晶圓也一樣，三星那麼大，最先進的光刻機也有，產量經驗也那麼多，最先進的製程做出來就是過熱翻車，台積電做的就是比他強。世界第二和世界第一的差距都這麼大了，那種只能在實驗室中搞出樣品的，要追上最先進水準還差得遠啊。
不過如果是軍用的晶片一般不用到最先端製程就是，但台積電每年幾千億研發的資本支出是靠巨大的收益支撐的，你做不出有競爭力能獲利的商業產品，怎麼賺錢支撐研發？最終一定只能維持自己做落後買現成的水準二三十年的囧境。
各師各法，总会有出路的。
6:25 Why we need to let the light beam avoid each other? It will not interfere with each other if they cross.
感謝分享~
到最後不能大量使用有什麼用？
台積電2018年時的7nm也是用DUV做的，良率不高
7nm以下還用DUV做就沒商業價值了，良率極低
自主芯片制造更急迫的目标主要不在于商用，而在于军工航天领域。而这些领域对于先进制程并灭有急迫性。
商用芯片需要的是市场，有了市场，生态和资金都不是问题，都是可以建立起来的。
如果美国限制对华芯片的出口，就相当于把中国市场让出来给国产芯片企业了，中国的市场够大，足够养活这些企业和建立新的生态。这对美国而言并不是好事。
@@yadongx 你这个推理是科幻小说看多了吧。北京维持统治主要靠欧美输入，商用芯片真的做好了，为什么自己不做安禄山？江山都是枪杆子打下的，新生态的企业抢夺党国政权怎么办？党国根本就不希望任何资本家做大，而是希望有很大的可控的产业把精英耗进去，别给他抢江山就行。用8051也能制作革命的炸弹
@fang li 美帝只要让党国先倒霉就够了。
@fang li 別那麽幼稚了，天天想別人放水，中國所謂的壟斷性產品，哪一樣不是在其他地方可以找替代的？
別黨美國人是傻子，以爲中國人最會算計？其實哪國人都會算計，只是要不要做而已，占了點便宜就以爲自己全地球最會算計了。真是無語，哪來的自信
不要亂講啦 改用EUV是因爲成本 良率固然是最重要的 生產成本也是重點
晶片最重要的還是良率，你良率低就算出到3奈米別人也不會花錢跟你買，
台積電強就強在有工程師新鮮的肝跟晶片的高良率與低放熱。
哈哈哈哈
新鮮的肝中國也不缺，所以重點在於良率
@@dinkuas 韓國也不缺肝，但就是太熱了
@@gncho2004 臺灣的肝比較廉價
韓國我記得容易罷工，台灣的比較聽話
台積5奈米以上的 價格和數量
目前也沒幾間公司吃的下....
太難了這內容！哈哈哈哈😂
不用ＥＵＶ也可製造７奈米，可用過度曝光而造出，只是良率很差只有百分之四十良率，而四十也不穩定，使用零件期間也容易故障。
浪費電
四十？中國有百分之一就該偷笑了
對了，四十是中國28奈米的上限，不是7奈米
@@user-sw8hf5by8e 又有懂哥了😅
@@ClearMika 你懂製程關鍵？
我還記得 我講台灣需要新鮮的肝XDDD
+1
要先有腦, 人家才要你的肝喔
@@johnchen6783 笑死不用那麼嚴格啦，產線作業員只要高中畢業就行了，進去一樣貢獻肝。
@@user-ej5ek2wg7f 那如果是這樣，所有行業都是賣肝啊，台灣滿滿的慣老闆啊，問題是很多人賣了肝還賺不到錢，這種更慘😅😅，台積高職生作業員代表她很資深超過20年，年薪早就破百了，比不過無腦的情何以堪啊？
@@user-ej5ek2wg7f 人家講的新鮮肝是指研發工程人員，不是會看ABC就可進去的操作員
我想問為何那一片原料是圓的，晶片不是方的嗎?
這樣邊角料不會浪費嗎:D (我完全外行
沒錯，邊角料真的就浪費掉了(一片晶圓可以切成好多方形晶片)！這也就是為什麼大家會推大晶圓，例如12吋比6吋好，因為圓形面積越大，相比之下的「損耗率」就會下降（中間的方形佔的比例越大）。因為晶圓很貴，各廠都努力把面積做大減少損失。
長晶時是用圓的方式長，從中心點向外，所以會是圓的，目前好像沒看到晶棒是用方的。
我聽過不少次，記得部份，不記得一些，現在又疊加回來。
說白話、講行話，「泛科學」分寸拿捏用心，身為攝影師今天才知道先進技術把我知道的顯影重覆五十次以上就可以了，當然先進製程沒那麼簡單！老是認為天邊遠的台灣立國基礎、名揚國際的半導體科技，原來是可再教的、可普及的。
P.S參加台積電的股東會，公關建議大家上官網看它的先進技術…
就光阻劑品質與穩定而言 不可否認日本是化工原料的霸主 各國當然能生產光阻劑 但 “品質” 應該是不用明說了
日本就是純度夠高，有做化學實驗的就知道了.....原料買日本的是老教授最愛叮嚀的事情
真的是原本懂的人，才看的懂這影片，哈
聽說阿斯麥市佔率並沒有達到100%，請問那些零頭是哪些廠商吃掉的？ 他們的技術來源呢？
日本，
以前日本是半导体霸主
TSMC的7nm製程也沒有用到EUV啊，重點還是良率跟品質能否跟上客戶要求。
台積電早就在用EUV做7奈米了
台雞雞最早的7NM是DUV
只有最早期第一代沒用，改進型後就改用ＥＵＶ了
能不能再做一期解释一下为啥大家都用asml的设备，但是各家水平却差异挺大？也就是说在晶圆厂拿到同样设备的前提下，为啥各家厂商的制程进度还是不一样？
這還需要問?
大陸人，都翻牆出來了，不會自己查asml跟台積電的關係嗎?
asml的機台完全就是台積電設計給自己用的台積電專用機，
你又不是台積電的工程師，你是其他家工廠的人，你怎麼可能知道這個台積電專用機裏頭的特殊功能要怎麼啟動?
就跟你設計了一把自己專用的武器，這把武器的隱藏功能要怎麼啟用，只有你自己知道，其他人拿到了，
沒有密碼，不知道訣竅，最多就只能發揮它的基本功能而已。
你以為這種商業機密是你上網隨便問問就能刺探出來的?
別傻了
你recipe設定不同，對defect的要求不同，以及CLN的cycle等等都不同，這些是各廠的know how，基本不可能公布的
@@mythwater 还可以这么搞，我见识还停留在定制个芯片型号之类的事上，真是开眼了。。还有隐藏功能和秘籍启动口令。。。
因為其他廠商都卡在 365 跟248啊
@@user-ow9lm6bo2g 对对，精辟，365和248
先进制程简单说：更多的晶体管数量和热功耗之前的平衡。
几纳米只是营销噱头，英特尔10纳米晶体管数量就比台积电7纳米多一点点了
光雕機 製作晶片的關鍵
光刻机，光刻胶，EDA 全部都是制作高端芯片的关键。
最重要應該在管理部分加強核心價值與人員向心力，不然一直進步一直人員背叛總不是個辦法～
缘木求鱼。 不仔细想想为啥总是只有这边人员走呢？
@@anlijiu 你这问题问的就好像为什么非洲人不来深圳教中国人组装手机……😂哪有低技术向高技术流动的……
@@ginvt 而且实际上流动了该学不会的还是学不会，都是骗吃骗喝去的
一般商业公司什么叫做背叛？
不过是人员离职另外找工作，
这样不行吗？
如果样样说背叛，
国家花了几百万教育经费，
结果出国留学，
留在欧美国家不回台湾供献所学
这个才是背叛吧？
@@search1788 你說對了，就因為是國與國。
台湾的优势应该是在先进制程
蜂巢結構可否破解立體構成，石墨烯是否可以破解，納米打印技術呢
石墨烯本身產量就低 真要做成晶圓不夠用
現在的策略是2D做到極限 就用疊加的3D來做
很棒的视频，科普的程度刚刚好，我只是想在外围了解多重曝光是啥，这个视频解答了我的疑问。中芯能够进步的这么快，可能良率没有台积电第一代7nm的高（k9000s芯片的手机还是经常缺货的）但通过多重曝光已经达到台积电3年前的水平了。其实我还蛮好奇如果EUV没有被制裁那今年肯定可以超过三星，也许甚至能挑战台积电了，真是可惜。
日本的鎧俠以 NIL（納米壓印），成功研發出 5納米製程。可見半導體製程不一定需要光刻機。
日本尼康已经宣布3D光刻机开发成功，EUV肯定成为废物。ASML不卖，no big deal , 日本懂得偷偷卖。
我在實驗室也能做出一奈米線寬，重點是有沒有商業使用價值
良率很重要 做的出來是一回事 有沒有人要用是另一回事
奈米壓印，台大材料也有教授在做，但以此大量生產是不是有問題？我覺得奈米壓印可用在非常特殊的光電功能。
@@douyalee2993 難道不能以納米壓印量產半導體？
中芯的7nm? 別讓人噴飯。 自20nm採用FIN FET後在電晶體上面的尺寸就沒有一樣是符合幾nm的，懂嗎? 包括Fin的寬度，Fin與Fin之間的距離，CPP，MP，Treck，M0~M2線寬都沒一項能代表幾nm製程的。 現在全部都改用PPA (Performance，Power，Area)作為技術節點的分際。 所以那個中芯所謂的7nm就是一個假命題，它也可以自稱是6nm，8nm也行，幾nm製程這些都只是廠商的技術節點名稱，事實上比的就每個技術節點製程下的PPA。
所以中芯那個所謂的7nm，有PPA規格嗎? 沒有，那你在吹個什麼勁。 有PPA的話，那就拿出來跟台積電與三星號稱的 7nm比一比PPA，這才能證明你是有料還是沒料的貨。三星，台積電，Intel都有公佈PPA，這是業界的常規，而中芯為甚麼不公佈?
一群SB總以為7nm大家都是一樣的，這完全是外行。 台積電所謂7nm製程，其晶片電晶體沒有一項物理尺寸是7nm的，三星，Intel亦然，所以大家就是比三家彼此的PPA，誰強誰弱立竿見影，逃都逃不過，吹牛也行不通，那麼中芯7nm的PPA在那裏?
中芯7nm的PPA, 提供给了中国围内的客户。 你不是，美国的客户也不是。非常时期，低调为上。 技术你说对了，策略就不是你所了解的。业界常规，美国人的常规吧！关中芯什么事？ 中芯是技术落后，还在低头发财，骨干员工很满意其薪酬！
@@vanqq 中芯很賺錢嗎？賺多錢？說出來讓我笑話笑話~~
ASML 使用的镜片一直是德国蔡司生产的吧？
What is 中芯 in English? Where is it located?
Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC)
en.wikipedia.org/wiki/Semiconductor_Manufacturing_International_Corporation
能在先天不足後天又失調的情況下弄出7奈米說實在不簡單，但良率呢...
他說了你就信！？
共產黨的數據從來都不會是真的
為什麼呢！？ 因為那是慣性
一個整天說謊的人已經失去了說實話的能力！
都不重要，反正够自媒体吹了，又再次赢麻了
無法大量生產。
@@allacerz2289 你这段话的最后一句就证明了你现在的自己！！
@@81-1 中國說謊又不是一次兩次。是常常說謊，所有數據都不可信。正常。
中芯並沒有表示自己做出7奈米，是美國第三方半導體檢測公司檢測出來的，中芯一直沒對這件事解釋過。
綠蛙1450領錢做事啦~
严格来说是CCP中宣部进驻SMIC那帮文科生搞出来的内宣鸡血文稿，总是敲锣打鼓。真正从事半导体的不会这么高调，你懂得
@@user-vw3ll9ky2p
所以一看你那麼高調，就知道聽你在放屁！🤭😜🤪
正確，
中國產品用會爆炸
只要是科學辦得到的 就沒有做不出來得 有時候只是有沒有想到而已
台灣，全部都要啊😊😊😊
技術都來自於人, 中芯進步那麼快, 應該是中芯從台積電找到對的人.
梁孟松
對中國來說，努力讓水準不在軍工需求上落後太多是首要目的，所以產能是次要的。
祖國有錢 良率成本不是問題
其实军工芯片不需要太小的，28NM已经绰绰有余，7NM以下的主要还是在消费型终端上
@@user-vw3dx2rv8z 還是需要的，高速電腦就需要，當然飛彈是不需要的。
不需要？烏克蘭一路高歌，你以為什麼理由？蘇聯的武器不高端嗎？怎麼一路挨打？精準與精密才叫未來。
@@Wh3Ttt .............什么叫做高速電腦？给我科普下 在我从业超过18年 都没有听过整个名词
不亮率多少啊？
最終目的還是良率及經濟效益
不過依照台積電的員工和中芯的員工去比較就可以知道很多都是從台積電挖角的，技術也是這樣外露給中芯的
而且聽說中芯的大將有一半以上都是台積電的前員工
*夢醒了嗎？夢遺了嗎？🤭😜🤪*
中國高薪挖角台灣人才早就不是新聞了，不只是台積電，基建工程也是台灣人過去建立的。
中國靠著挖角和複製，確實進步的很快；現在人家不給抄作業了，就翻臉說別人打壓，而不是自我檢討該如何突破改進，這才是中國不能再向前的最大問題所在。
@@mjk7530
*活在當下吧~看你當1450領錢樂的咧！然後你作業抄完了沒？*
@@user-lx1mk6mq9g 監獄生活苦悶，發文換減刑，辛苦了，我懂。
@@mjk7530 台湾不是宇宙起源简直太可惜了，可惜你们台湾人是出了，抠门，偷工减料。打着大陆的牌子毁大陆名声，你以为你们台湾人名声很好？
做别人认为难做费事的事。现在的荷兰光刻机和三星的芯片当初大家都认为难做不赚钱。
繼續當世界轉運中心增加影響力會不會比較好
平庸的人永遠過平庸的生活.
@@Fightback2023 不用向人自介
我想的是再有多久会达到物理极限。现在已经两三纳米了，再要多久隧道效应会登场
euv是全球人类工业文明的皇冠！
這集是不是之前就有公開過了？
更新重發
更新圖片素材授權的部分
之前有發文
盜科學
DUV可以做到目前台积电的N7制程，但是能做不代表良品率高，多次曝光后良品率太低的话根本就不具备商业价值，做军用芯片不考虑商业成本这没有问题，但是光靠军方的订单真的够整个产业的发展吗，没有EUV光刻机N7制程根本无法商业化量产，更别说提高制程了。
台積電利潤80%，也就是說哪怕比台積電成本高5倍，依然可以賣且有得賺。除非台積電降價，不過目前反正也不能賣，降價也沒有用，所以就還是有商業價值。而且技術還在進步，慢慢就降低成本，最後技術突破，説不定就有euv或者不需要euv了。
@@user-qw3ny7sf7n 你說的有道理，不過目前台積電的利潤率主要是N10和N7製程產線，N5和將來的N3製程利潤率有多少還很難說。目前大陸的N7芯片可以做出來，這僅僅是解決有無的問題，現在美國制裁進一步收緊，很多華裔和綠卡持有從業者都被迫離職和轉戰東南亞了，對於大陸來說現在已經不是有沒有EUV的問題了，包括EDA甚至將來光刻膠，各種透鏡，鍍膜，試劑等一系列的問題恐怕會焦頭爛額。台灣現在真是華人科技之光，能有今天的局面屬實不易。
打脸了吧
良率是個問題