반도체8대공정 번외편 : 클리닝. 깨끗한 웨이퍼를 위하여. 남이 알려주면 쉬운 반도체 공정

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  • Опубликовано: 18 дек 2024

Комментарии • 18

  • @brandonlee253
    @brandonlee253 4 года назад +1

    영상보기전에 피땀눈물 무슨말인가 했는데ㅋㅋㅋ듣다가 중간에 터졌네요ㅎ 오늘도 재밌는 영상 잘 보고 갑니다!

  • @곱슬이-l3z
    @곱슬이-l3z 2 года назад

    FOUP이란 용어 자주 쓰면서도 의미는 이제 알았네요. 영상 감사합니다!

  • @flashman8899
    @flashman8899 2 года назад

    유익한 영상 잘 봤습니다! 감사합니다

  • @셀리S2
    @셀리S2 4 года назад +1

    감사합니다 클리닝이 이렇게 간단하게 설명되네요 ㅎㅎ 제가 금속부분만 아직 못봤는데 CMP 관련 내용이 곧 나올까요?? 앞 영상들에서 CMP 언급을 자주 해주셔서 궁금해가지구요! 얼른 금속도 달리겠습니다..

    • @namrnam5413
      @namrnam5413  4 года назад +1

      CMP는 자세하겐 다루지 않았습니다 ㅠ

    • @셀리S2
      @셀리S2 4 года назад

      @@namrnam5413 방금 금속까지 다 보고 왔습니다! 중간에 CMP 언급이 있네요 ㅎㅎ 따로 찾아서 더 공부해야겠어요~! 면접 준비에 큰 도움이 되고 있습니다 영상 감사합니다😭

  • @이팝나무-t3i
    @이팝나무-t3i 2 года назад

    감사합니다

  • @용용-j9m
    @용용-j9m 2 года назад

    metal line 과 PR line 을 구분하지 않으면 어떤 이슈가 발생하는지 궁금합니다.

  • @멍초보
    @멍초보 3 года назад

    혹시 cleaning에서 wet etching을 주로 사용한다고 들었는데, 자세히 알 수 있을까요?

  • @박재성-t6x
    @박재성-t6x 2 года назад

    각 세정공정 후 불량검사는 어떻게 하는지요?

    • @neon6846
      @neon6846 2 года назад

      라인에 파티클 검사하는 장비가 있어요 거기에 세정 완료된 웨이퍼가 들어있는 foup 올려놓고 검사하면 웨이퍼 어느위치에 얼마나 세정이 안된부분이 있는지 이미지로 보여줘서 분석 가능합니다

  • @크릿-t6w
    @크릿-t6w 2 года назад

    클린공정 보면 염기성 용액 SC1을 쓴 다음에 SC2 산성용액을 쓰는데 거꾸로 하면 안되는건가요??

  • @황도현-q2y
    @황도현-q2y 4 года назад

    감사합니다~

  • @SJ-sp1wr
    @SJ-sp1wr 4 года назад +1

    피땀눈물 ㅋㅋㅋ

  • @우동짜이
    @우동짜이 4 года назад

    그럼 KLA에서 하는게 이 클리닝단계 장비업체인가요?

    • @namrnam5413
      @namrnam5413  4 года назад

      업체 관련해선 잘 모르겠는데 일단 검사장비 같아요: )
      홈페이지 카탈로그를 봐보시는게 어떨까요?

  • @im_hoon
    @im_hoon 4 года назад

    피땀눈물 ㅋㅋㅋㅋㅋㅋㅋㅋ

  • @seungmingt
    @seungmingt Год назад

    감사합니다