[기초반도체공정|4.1]

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  • Опубликовано: 25 ноя 2024
  • etching 의 성능을 평가할 때 주로 사용하는 용어들의 정의와 의미에 대해 알아봅니다.

Комментарии • 7

  • @김주영-d7s
    @김주영-d7s 7 месяцев назад

    좋은 강의 감사합니다!! 😊😊😊

  • @김성준-i5m
    @김성준-i5m 2 месяца назад

    다음 강의는 언제쯤 올라올까요ㅠ

    • @DevicePhysics
      @DevicePhysics  2 месяца назад

      일이 많아져서 영상을 만들 여유가 없습니다. 한동안은 어려울것 같습니다.

  • @야옹쓰-c2h
    @야옹쓰-c2h 6 месяцев назад

    안녕하십니까, 교수님. Etch 시 profile에 대해 궁금한 점이 생겨 질문드립니다.
    흔히 말하는 Footing이라 함은, Notching 현상을 포함하는 개념인가요? Footing-Notching-(dove tailing)간 Etch profile의 차이가 사실상 없는 것 같아 헷갈립니다 ㅠㅠ

    • @DevicePhysics
      @DevicePhysics  6 месяцев назад +1

      저는 공정전문은 아니라 직접 이런 현상들을 본적이 없는데, 아무튼 제가 배운바로는,
      1. Footing effect 때문에 얻어진 결과물이 notching 입니다. 즉, 두 용어는 동일한 의미 입니다.
      2. dovetail 은 notching 과는 프로파일이 완전히 다릅니다. 논문들 몇개만 검색해보면 쉽게 프로파일을 찾을 수 있습니다.

    • @야옹쓰-c2h
      @야옹쓰-c2h 6 месяцев назад

      답변 감사드립니다!!

  • @이하-r6d
    @이하-r6d 6 месяцев назад

    좋은 강의 감사합니다! 240524