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【勘誤資訊】影片資料在04:55處有誤植了『聚焦鏡組』，並且影響造成口誤， 但其實應該是匯聚焦點 (IF - intermedina foucs)的意思。 這邊造成大家困擾誤解，真的非常不好意思。在這邊致歉一下喔，謝謝各位， 祝各位假日愉快
日本我相信化工實力很強 這個就算了 之前說要蓋太空電梯 又說要怎樣怎樣的 都沒有實際行動 不像馬斯克。與其討論耗能問題不如早點研發出新的發電方式
影片和留言都很精彩👍👍
ASML那些反射鏡 有一部份是在修正像差沖繩這個新竹完全沒考慮反射鏡也會有像差要修正這修正下去哪裡還會是四片，現階段加工方式沒辦法作到完美的反射鏡(即便是DUV也沒辦法製作完美的透鏡 沒辦法作到用一片就夠了)要保證reticle上面的圖形都能正確曝光，在現有誤差下只能漸漸聚焦光束這篇論文更像是叫人去研究mata surface來做完美反射鏡
如果meta surface商用化，或許真能解決喔
@@rangeo1492 光學原理看似簡單，實際要做出和光罩一樣的圖案，實際需要很多工程技術搭配，例如相位移光罩、光學進階補償OPC及蝕刻後的成形都和黃光製程有很大的關聯性，光能是一種高斯分布的，存在繞射和邊緣疊加的特性，都會影響光祖吸收能量
減少反射鏡會不會降低雕刻的精度和準確性，有待考察
@@張文賓-q6j 不過mata surface的原理基本上是表面上做小天線 (pattern的形狀大小都要隨著波長變短跟著變小)由於EUV光的波長太短了，這小天線100%也要用EUV來做大多數人沒那個環境可以評估EUV下的mata surface 反射率是否可以增加如果單層不行 那雙層 三層呢？ 或許最後會演變到複合層數的meta surface架構(目前頂多只有人去做單層meta surface 而且對應的還是遠紅外線)軟體上也沒有人在寫，即便寫好 這設計恐怕也是AI才能產出只要一個完美的平面，上面長mata surface之後就可以生產完美的反射鏡這成功的誘因很大，但這門檻太高 沒有比EUV光源簡單
日本廠商配合度太差，不願意跟著台積的需求去改善研發機台，才淪為這地步，現在要跨是吧？先給一台free tool，裝機上億經費也自己出，使用的資源水汽電、化學品、控片都自己出錢，一個月可能要數千萬，一年就是數億，還要配合台積各種超越極限的改善要求，妥善率，產出速度，連結各種台積的生管系統，最後失敗再要你自己負責搬走，有了初步可行data後，再來一個產品一個產品來跨，求客戶同意跨，客戶沒事幹嘛同意換這麼重要的製程？Cost低，那要降價嗎？那良率呢？電性有comparable ？這根本是一條漫漫長路啊，沒個3年搞不定的，最後搞定了，也可能只是淪為被用來跟ASML殺價的工具，畢竟人家ASML也不傻，人家也會降價、改良機台來跟你競爭啊😂😂
未來會有很多技術取代EUV，ASML前幾年也是很秋，他之前的浸潤式技術是和台積(林本堅)一起研發出來的，商人本應無國界，但現在中美晶片制裁，ASML的市場少掉將近40%，今年財報比預估值少掉一半，ASML也緊張了，以這種方式，再過個2~3年我相信ASML也要思考裁員瘦身計畫了~
@@hong-chihchen1764 取代EUV? 這是很基本物理的東西，要如何取代? 除非你不用"曝光技術".....這問題已經是2050之後 (或許2070)的討論了
@@TWALBEVANIL奈米壓印技術有聽過嗎？
@@TWALBEVA 抱歉我應該要說替代EUV，而非取代，謝謝指正
3年可能太樂觀,日商習慣圈地自己玩,自己訂標準,自己賺授權,機關算盡所以最後落得如此下場,我覺得不會成功,答案幾年後便可知曉~
ASML的EUV，並不是開發出來之後就開始熱賣。而且和台積電配合進行試產、除錯。為了ASML的EUV，台積電報廢了無數的晶圓，才搞定了EUV上的各種問題。日本人做的EUV，能不能找到願意配合除錯的廠商才是最大的問題。台積電自己也是ASML的股東，會不會有興趣配合日廠進行相關的試產與除錯，要打上一個大問題。而剩下的三星、Intel有沒有財力或意願去配合也是問題。剩下的選項大概只有日本人自己搞的Rapidus。
當初有跟台積高層討論能否使用超導全反射鏡，EUV本身就是真空系統，使用低溫超導其實是可行的。但是後來EUV連設備工程師都是ASML派遣的，台積這邊就不用管了~~
主要是機台是由各國頂尖工業合併再一起開發出來的！並不是一個國家就把所有技術都克服！
希望日本能研發出高精度EUV跟ASML做削價競爭，機台就不用這麼貴了
我只能說實際實驗不可能跟模擬出來的一樣，但至少很好的說明是模擬的，比室溫超導體事件有誠信多了
模擬通常是用來分析問題瓶頸的。因為問題已經複雜到人腦無法一次性的理解，必須將之圖形化與利用公式等工具說明。這也方便與光學設計&製造討論。
用多少反射鏡必須跟蔡司買鏡片
我只問一句:賣給誰了，良率跟利潤率是多少 ? 日本私人公司應該玩不起，如果讓政府參股投資，不知是否會被直接吃掉，而公務員的辦事效率......摺疊螢幕、軟基板、光傳輸，也不是甚麼新鮮名詞，但離商品化、量產...還有很遠的路。目前只能說看見曙光，離打敗ASML還很遠。
問題是聚焦鏡組是用什麼材質？畢竟euv是13.5nm波長，目前世上大多才直接會吸收，所以asml才會使用反射是光罩。
真抱歉，那邊我製作素材時誤植所以造成口誤，那裡應該是光線匯聚焦點的意思(IF - intermedina foucs)。造成大家困擾了 真不好意思阿。我會統一勘誤一下，真是抱歉 >"< 也謝謝您提醒喔~
老實講就算只有少一片也是非常大的提升
這倒是沒錯~觀念超正確~~~哈哈
@@anti-team 別傻了，機台能耗與良率自然會偏重在良率，否則良率下降，成本反而飆高😂。減少反射鏡數量會導致光束的偏移和失焦，從而影響製造過程的準確性和產品的品質。ASML肯定有實際研究過，不斷增加反射鏡片數與良率提高的關聯性，一直增加到提升良率到不明顯，沒意義。換言之，這篇日本研究根本是毫無實際意義😅
哇！那每一片成本都上億台幣吧。
@@tangtienji 其實光刻機這麼貴不是他造價貴,是他開發費用貴.........開發費用攤提在光科機裡面造就了天價光刻機
@@海森威 成本本來就是人在貴啊，天下事的物質都是免費的。尤其是晶片，全是人值錢。
這個想法很不錯，類似採用雷射共振腔的概念，但是實用性，還是需要驗證。ASML 的設計，簡單暴力，採用 平面鏡。他的光路上(像差)，可以做很多修正工作。而新的設計方式，在光學鏡面的精度上，要求應該會更嚴格。Anyway，直上機台就知道了。👍
布拉格反射鏡只適合X光
成熟製程不是也有黃光嗎????
黃光是因為微縮影像曝光作業區用黃光做環境照明，所以業界會用黃光(黃光區)，作為微影相關作業的代稱，畢竟曝光只是其中的一個環節！
他這個很像卡賽格林式的天文望遠鏡欸。等下...布拉格廣場可以不要亂入嗎?
播放速度* 1.25 👍
這個挖洞的技術方式好像之前就有，但是有些缺點.... 可以去查相關的論文XD
良率 良率良率
基本上的問題就是啥時量產??量產平均良率多少??單價多少??有多少大廠已經用過了??
說的好
都說是新竹教授了，肯定是台積電的工程師
看你的影片學習實在是太方便
我比較好奇大家的留言
事實上很多人都沒有想過或根本不知道。台積電當初投資光罩也就是非主流現在的艾斯莫爾，那時候卡的bug是什麼。然後那個bug解決了就趕著上原模板再來實驗成功。 所以所謂的實用性是因為沒有效能極簡化，而直接取原實驗數據拷貝複製貼上的鏡片。 也就是說知道內情的人會很看好這個還未確認實用性如何的鏡片組，因為這步只是艾斯莫爾的下一步。而這研究這東西說穿了沒底本的爛賭鬼贏了就賺了
我還是比較期待奈米壓印技術能突破。要是能成功可減少能源消耗效率更好成本更低這才是人類之福。但可能ASML與台積電,輝達可能就不妙了因為一下子門檻降低營收獲利也會跟著崩。
奈米壓印已經能做到2nm的製程，但實際應用最大的問題是疊對精準度
@@hong-chihchen1764 你要怎麼做出2奈米的模子不也是相當大的問題?!只有聽過用2奈米的模子印出來,卻沒有講如何做出這兩奈米的模子,可笑不!!日本人的話聽聽就好,等實用後再講,如只是嘴砲階段,連參考的價值都沒有!!
@@kingworld7747 是能做出2nm的製程不是做出2nm的模子 目前的問題是多重曝光的對準還不可靠
@@kingworld7747 用電子束刻印，再小也可以，就是電子束刻印太慢不如投映，差距有如手抄和影印，才沒人用電子束生產。如果一個印模可以用數萬次，那電子束慢也可以接受了。
Bragg mirror is the best
請教是否有機會介紹半導體如何一層一層精準疊合的技術，以及未來可能的發展? (有可能堆疊精度到5A嗎)
一看到有"聚焦鏡組"就知道這個設計是失敗之作，因為顯然沒有考慮到"聚焦鏡組"散熱及像差導致光刻偏離等問題，所以這個設計極有可能沒辦法高效的"量產"晶片，頂多只是在實驗室裡的自High之作，在我看來就只是想騙科研經費或是自我吹噓而已。
我下一個結論.....論文而已..........但無法利用,因為是節能~問題沒有效能 , 人家要做2nm 你要做20nm嗎?
就算做出來少了中國市場也沒用，台積只用ASML的。
研究到商業用😂😂😂😂笑死 跟英特爾研究室一樣 可製造1奈米晶片 但是無法量產 有屁用研究
鏡片，我只信德國蔡司，日本的鏡片還不夠做EUV
跟蔡司採購就好日本提出的理論不代表成品都是日本零件
小孩子才做模擬，大人都看根據你模型下做出來的實際成果做判斷。
非也，這個研究從一開始就是沒意義，根本是不懂半導體製程的人才會做的研究：別傻了，機台能耗與良率自然會偏重在良率，否則良率下降，成本反而飆高😂。減少反射鏡數量會導致光束的偏移和失焦，從而影響製造過程的準確性和產品的品質。ASML肯定有實際研究過，不斷增加反射鏡片數與良率提高的關聯性，一直增加到提升良率到不明顯，沒意義。換言之，這篇日本研究根本是毫無實際意義😅
沒有模擬哪來的模型
連模擬都不做直接做模型阿😄.....
@@IN9599 精密光學都是在逼近物理極限 那運算量不是人能做的 舉個我們常做的工作:十萬條光線經過系統後分別落到哪
這個研究從一開始就是沒意義，根本是不懂半導體製程的人才會做的研究：別傻了，機台能耗與良率自然會偏重在良率，否則良率下降，成本反而飆高😂。減少反射鏡數量會導致光束的偏移和失焦，從而影響製造過程的準確性和產品的品質。ASML肯定有實際研究過，不斷增加反射鏡片數與良率提高的關聯性，一直增加到提升良率到不明顯，沒意義。換言之，這篇日本研究根本是毫無實際意義😅
艾斯摩爾要開始思考裁員瘦身計畫了~因為EUV賣不動了，另外你覺得製程良率和ASML設備有上相關? 你確定良率和設計、製程流程與製程參數無關? 那ASML賣給三星、INTEL與台積的差異在哪裡? 別說你懂製程，懂製程的，就知道我說的差異在哪
如果日本人真的搞出一個新的反射鏡材料就很難講了，別小看日本的化工實力
@@hong-chihchen1764問了一堆問題都是屁
@@hong-chihchen1764跟半導體製成良率當然沒相關 畢竟出場就是要符合規格 但跟設備製造的良率相關
@@hong-chihchen1764可以簡單介紹一下嗎，我想聽差別，還有為什麼你會懂這些
這樣才對嘛！台積電靠自己的實力擁有的市占率被美國稱反托拉斯，ASML全球僅一家獨大沒有競爭對手，美國就不吭一聲．有競爭才有進步．價格才會下降．ASML太貴了.
這樣真的對嗎？日企是真的和ASML競爭嗎？我看是ASML被美國坑了吧？這個圈子裡，日企、ASML 都可能是輸家，只有美國是贏家，台積電？沒它的什麼事。
吹的比較多
就是不參考我的標題誒
因為那個是後續有趣主題的殺手鐧鴨~:D
模擬模擬啦。 廢話了。
这也仅仅只是反射镜组的部分，这一部分是蔡司在做。asml只是买来用而已。
我認為台積電技術真的很厲害，但未來幾年，台積電如果持續在台灣建廠，則會用掉全台8%的電力，我覺得台積技術根留台灣，但建廠擴廠可以去其他像是日本、東南亞等國家，這樣台灣就不用煩惱缺備載電力的問題~也不會漲電價了
去洗洗睡吧你
不有趣
論文?模擬? 連個影子都沒有,竟還有人正經八百的把它當回事在發影片. 不會太搞笑嗎?
留言一堆人在嘲笑研究新方法的學者,足見台灣人智商之高 難怪我們能有台積電 美國沒有,只能搞那個甚麼james webb
論文一堆，那幾個做出量產產品了？？
沒錯，所以要真的做得出來才是真的
聽不懂，但本人比較想知道的事，歐系與日系這兩台光刻機若在同樣規格，同樣條件的情況下，哪一個能快速、零污染、高精度完成晶片？
這個講話的節奏，聽起來快斷氣了😂
沖繩理工這個模擬 是不懂半導體製程的人搞得吧
日本人的話聽聽就好,等實用後再講,如只是嘴砲階段,連參考的價值都沒有!!四片鏡子?!如照相機用一片透鏡也可做出來,但好的相機為何要10幾個透鏡?!消除色像差唄,一個嚴重色像差的光源連狗都嫌,還能用嗎?!別外,色像差是類比的也就是連嬻的,而不是數位的一塊一塊的,你不能說我可利用色像差來一次性處理幾個幾個光罩區塊!!
【勘誤資訊】影片資料在04:55處有誤植了『聚焦鏡組』，並且影響造成口誤， 但其實應該是匯聚焦點 (IF - intermedina foucs)的意思。 這邊造成大家困擾誤解，真的非常不好意思。在這邊致歉一下喔，謝謝各位， 祝各位假日愉快
日本我相信化工實力很強 這個就算了 之前說要蓋太空電梯 又說要怎樣怎樣的 都沒有實際行動 不像馬斯克。與其討論耗能問題不如早點研發出新的發電方式
影片和留言都很精彩👍👍
ASML那些反射鏡 有一部份是在修正像差
沖繩這個新竹完全沒考慮反射鏡也會有像差要修正
這修正下去哪裡還會是四片，現階段加工方式沒辦法作到完美的反射鏡
(即便是DUV也沒辦法製作完美的透鏡 沒辦法作到用一片就夠了)
要保證reticle上面的圖形都能正確曝光，在現有誤差下只能漸漸聚焦光束
這篇論文更像是叫人去研究mata surface來做完美反射鏡
如果meta surface商用化，或許真能解決喔
@@rangeo1492 光學原理看似簡單，實際要做出和光罩一樣的圖案，實際需要很多工程技術搭配，例如相位移光罩、光學進階補償OPC及蝕刻後的成形都和黃光製程有很大的關聯性，光能是一種高斯分布的，存在繞射和邊緣疊加的特性，都會影響光祖吸收能量
減少反射鏡會不會降低雕刻的精度和準確性，有待考察
@@張文賓-q6j 不過mata surface的原理
基本上是表面上做小天線 (pattern的形狀大小都要隨著波長變短跟著變小)
由於EUV光的波長太短了，這小天線100%也要用EUV來做
大多數人沒那個環境可以評估EUV下的mata surface 反射率是否可以增加
如果單層不行 那雙層 三層呢？ 或許最後會演變到複合層數的meta surface架構
(目前頂多只有人去做單層meta surface 而且對應的還是遠紅外線)
軟體上也沒有人在寫，即便寫好 這設計恐怕也是AI才能產出
只要一個完美的平面，上面長mata surface之後就可以生產完美的反射鏡
這成功的誘因很大，但這門檻太高 沒有比EUV光源簡單
日本廠商配合度太差，不願意跟著台積的需求去改善研發機台，才淪為這地步，
現在要跨是吧？
先給一台free tool，裝機上億經費也自己出，
使用的資源水汽電、化學品、控片都自己出錢，一個月可能要數千萬，一年就是數億，
還要配合台積各種超越極限的改善要求，妥善率，產出速度，連結各種台積的生管系統，
最後失敗再要你自己負責搬走，
有了初步可行data後，
再來一個產品一個產品來跨，求客戶同意跨，客戶沒事幹嘛同意換這麼重要的製程？
Cost低，那要降價嗎？那良率呢？電性有comparable ？
這根本是一條漫漫長路啊，沒個3年搞不定的，
最後搞定了，也可能只是淪為被用來跟ASML殺價的工具，
畢竟人家ASML也不傻，人家也會降價、改良機台來跟你競爭啊😂😂
未來會有很多技術取代EUV，ASML前幾年也是很秋，他之前的浸潤式技術是和台積(林本堅)一起研發出來的，商人本應無國界，但現在中美晶片制裁，ASML的市場少掉將近40%，今年財報比預估值少掉一半，ASML也緊張了，以這種方式，再過個2~3年我相信ASML也要思考裁員瘦身計畫了~
@@hong-chihchen1764 取代EUV? 這是很基本物理的東西，要如何取代? 除非你不用"曝光技術".....這問題已經是2050之後 (或許2070)的討論了
@@TWALBEVANIL奈米壓印技術有聽過嗎？
@@TWALBEVA 抱歉我應該要說替代EUV，而非取代，謝謝指正
3年可能太樂觀,日商習慣圈地自己玩,自己訂標準,自己賺授權,機關算盡所以最後落得如此下場,我覺得不會成功,
答案幾年後便可知曉~
ASML的EUV，並不是開發出來之後就開始熱賣。而且和台積電配合進行試產、除錯。為了ASML的EUV，台積電報廢了無數的晶圓，才搞定了EUV上的各種問題。日本人做的EUV，能不能找到願意配合除錯的廠商才是最大的問題。台積電自己也是ASML的股東，會不會有興趣配合日廠進行相關的試產與除錯，要打上一個大問題。而剩下的三星、Intel有沒有財力或意願去配合也是問題。剩下的選項大概只有日本人自己搞的Rapidus。
當初有跟台積高層討論能否使用超導全反射鏡，EUV本身就是真空系統，使用低溫超導其實是可行的。但是後來EUV連設備工程師都是ASML派遣的，台積這邊就不用管了~~
主要是機台是由各國頂尖工業合併再一起開發出來的！並不是一個國家就把所有技術都克服！
希望日本能研發出高精度EUV跟ASML做削價競爭，機台就不用這麼貴了
我只能說實際實驗不可能跟模擬出來的一樣，但至少很好的說明是模擬的，比室溫超導體事件有誠信多了
模擬通常是用來分析問題瓶頸的。
因為問題已經複雜到人腦無法一次性的理解，必須將之圖形化與利用公式等工具說明。
這也方便與光學設計&製造討論。
用多少反射鏡必須跟蔡司買鏡片
我只問一句:賣給誰了，良率跟利潤率是多少 ? 日本私人公司應該玩不起，如果讓政府參股投資，不知是否會被直接吃掉，而公務員的辦事效率......摺疊螢幕、軟基板、光傳輸，也不是甚麼新鮮名詞，但離商品化、量產...還有很遠的路。目前只能說看見曙光，離打敗ASML還很遠。
問題是聚焦鏡組是用什麼材質？畢竟euv是13.5nm波長，目前世上大多才直接會吸收，所以asml才會使用反射是光罩。
真抱歉，那邊我製作素材時誤植所以造成口誤，那裡應該是光線匯聚焦點的意思(IF - intermedina foucs)。造成大家困擾了 真不好意思阿。我會統一勘誤一下，真是抱歉 >"< 也謝謝您提醒喔~
老實講就算只有少一片也是非常大的提升
這倒是沒錯~觀念超正確~~~哈哈
@@anti-team 別傻了，機台能耗與良率自然會偏重在良率，否則良率下降，成本反而飆高😂。減少反射鏡數量會導致光束的偏移和失焦，從而影響製造過程的準確性和產品的品質。ASML肯定有實際研究過，不斷增加反射鏡片數與良率提高的關聯性，一直增加到提升良率到不明顯，沒意義。換言之，這篇日本研究根本是毫無實際意義😅
哇！那每一片成本都上億台幣吧。
@@tangtienji 其實光刻機這麼貴不是他造價貴,是他開發費用貴.........開發費用攤提在光科機裡面造就了天價光刻機
@@海森威 成本本來就是人在貴啊，天下事的物質都是免費的。尤其是晶片，全是人值錢。
這個想法很不錯，類似採用雷射共振腔的概念，但是實用性，還是需要驗證。
ASML 的設計，簡單暴力，採用 平面鏡。他的光路上(像差)，可以做很多修正工作。
而新的設計方式，在光學鏡面的精度上，要求應該會更嚴格。
Anyway，直上機台就知道了。👍
布拉格反射鏡只適合X光
成熟製程不是也有黃光嗎????
黃光是因為微縮影像曝光作業區用黃光做環境照明，所以業界會用黃光(黃光區)，作為微影相關作業的代稱，畢竟曝光只是其中的一個環節！
他這個很像卡賽格林式的天文望遠鏡欸。
等下...布拉格廣場可以不要亂入嗎?
播放速度* 1.25 👍
這個挖洞的技術方式好像之前就有，但是有些缺點.... 可以去查相關的論文XD
良率 良率良率
基本上的問題就是
啥時量產??
量產平均良率多少??
單價多少??
有多少大廠已經用過了??
說的好
都說是新竹教授了，肯定是台積電的工程師
看你的影片學習實在是太方便
我比較好奇大家的留言
事實上很多人都沒有想過或根本不知道。台積電當初投資光罩也就是非主流現在的艾斯莫爾，那時候卡的bug是什麼。然後那個bug解決了就趕著上原模板再來實驗成功。
所以所謂的實用性是因為沒有效能極簡化，而直接取原實驗數據拷貝複製貼上的鏡片。
也就是說知道內情的人會很看好這個還未確認實用性如何的鏡片組，因為這步只是艾斯莫爾的下一步。
而這研究這東西說穿了沒底本的爛賭鬼贏了就賺了
我還是比較期待奈米壓印技術能突破。要是能成功可減少能源消耗效率更好成本更低這才是人類之福。但可能ASML與台積電,輝達可能就不妙了因為一下子門檻降低營收獲利也會跟著崩。
奈米壓印已經能做到2nm的製程，但實際應用最大的問題是疊對精準度
@@hong-chihchen1764 你要怎麼做出2奈米的模子不也是相當大的問題?!只有聽過用2奈米的模子印出來,卻沒有講如何做出這兩奈米的模子,可笑不!!日本人的話聽聽就好,等實用後再講,如只是嘴砲階段,連參考的價值都沒有!!
@@kingworld7747 是能做出2nm的製程不是做出2nm的模子 目前的問題是多重曝光的對準還不可靠
@@kingworld7747 用電子束刻印，再小也可以，就是電子束刻印太慢不如投映，差距有如手抄和影印，才沒人用電子束生產。如果一個印模可以用數萬次，那電子束慢也可以接受了。
Bragg mirror is the best
請教是否有機會介紹半導體如何一層一層精準疊合的技術，以及未來可能的發展? (有可能堆疊精度到5A嗎)
一看到有"聚焦鏡組"就知道這個設計是失敗之作，因為顯然沒有考慮到"聚焦鏡組"散熱及像差導致光刻偏離等問題，所以這個設計極有可能沒辦法高效的"量產"晶片，頂多只是在實驗室裡的自High之作，在我看來就只是想騙科研經費或是自我吹噓而已。
我下一個結論.....論文而已..........但無法利用,因為是節能~問題沒有效能 , 人家要做2nm 你要做20nm嗎?
就算做出來少了中國市場也沒用，台積只用ASML的。
研究到商業用😂😂😂😂笑死 跟英特爾研究室一樣 可製造1奈米晶片 但是無法量產 有屁用研究
鏡片，我只信德國蔡司，日本的鏡片還不夠做EUV
跟蔡司採購就好
日本提出的理論不代表成品都是日本零件
小孩子才做模擬，大人都看根據你模型下做出來的實際成果做判斷。
非也，這個研究從一開始就是沒意義，根本是不懂半導體製程的人才會做的研究：別傻了，機台能耗與良率自然會偏重在良率，否則良率下降，成本反而飆高😂。減少反射鏡數量會導致光束的偏移和失焦，從而影響製造過程的準確性和產品的品質。ASML肯定有實際研究過，不斷增加反射鏡片數與良率提高的關聯性，一直增加到提升良率到不明顯，沒意義。換言之，這篇日本研究根本是毫無實際意義😅
沒有模擬哪來的模型
連模擬都不做直接做模型阿😄.....
@@IN9599 精密光學都是在逼近物理極限 那運算量不是人能做的 舉個我們常做的工作:十萬條光線經過系統後分別落到哪
這個研究從一開始就是沒意義，根本是不懂半導體製程的人才會做的研究：別傻了，機台能耗與良率自然會偏重在良率，否則良率下降，成本反而飆高😂。減少反射鏡數量會導致光束的偏移和失焦，從而影響製造過程的準確性和產品的品質。ASML肯定有實際研究過，不斷增加反射鏡片數與良率提高的關聯性，一直增加到提升良率到不明顯，沒意義。換言之，這篇日本研究根本是毫無實際意義😅
艾斯摩爾要開始思考裁員瘦身計畫了~因為EUV賣不動了，另外你覺得製程良率和ASML設備有上相關? 你確定良率和設計、製程流程與製程參數無關? 那ASML賣給三星、INTEL與台積的差異在哪裡? 別說你懂製程，懂製程的，就知道我說的差異在哪
如果日本人真的搞出一個新的反射鏡材料就很難講了，別小看日本的化工實力
@@hong-chihchen1764問了一堆問題都是屁
@@hong-chihchen1764跟半導體製成良率當然沒相關 畢竟出場就是要符合規格 但跟設備製造的良率相關
@@hong-chihchen1764可以簡單介紹一下嗎，我想聽差別，還有為什麼你會懂這些
這樣才對嘛！台積電靠自己的實力擁有的市占率被美國稱反托拉斯，
ASML全球僅一家獨大沒有競爭對手，美國就不吭一聲．
有競爭才有進步．價格才會下降．ASML太貴了.
這樣真的對嗎？日企是真的和ASML競爭嗎？我看是ASML被美國坑了吧？這個圈子裡，日企、ASML 都可能是輸家，只有美國是贏家，台積電？沒它的什麼事。
吹的比較多
就是不參考我的標題誒
因為那個是後續有趣主題的殺手鐧鴨~:D
模擬模擬啦。 廢話了。
这也仅仅只是反射镜组的部分，这一部分是蔡司在做。asml只是买来用而已。
我認為台積電技術真的很厲害，但未來幾年，台積電如果持續在台灣建廠，則會用掉全台8%的電力，我覺得台積技術根留台灣，但建廠擴廠可以去其他像是日本、東南亞等國家，這樣台灣就不用煩惱缺備載電力的問題~也不會漲電價了
去洗洗睡吧你
不有趣
論文?模擬? 連個影子都沒有,竟還有人正經八百的把它當回事在發影片. 不會太搞笑嗎?
留言一堆人在嘲笑研究新方法的學者,足見台灣人智商之高
難怪我們能有台積電 美國沒有,只能搞那個甚麼james webb
論文一堆，那幾個做出量產產品了？？
沒錯，所以要真的做得出來才是真的
非也，這個研究從一開始就是沒意義，根本是不懂半導體製程的人才會做的研究：別傻了，機台能耗與良率自然會偏重在良率，否則良率下降，成本反而飆高😂。減少反射鏡數量會導致光束的偏移和失焦，從而影響製造過程的準確性和產品的品質。ASML肯定有實際研究過，不斷增加反射鏡片數與良率提高的關聯性，一直增加到提升良率到不明顯，沒意義。換言之，這篇日本研究根本是毫無實際意義😅
聽不懂，但本人比較想知道的事，歐系與日系這兩台光刻機若在同樣規格，同樣條件的情況下，哪一個能快速、零污染、高精度完成晶片？
這個講話的節奏，聽起來快斷氣了😂
沖繩理工這個模擬 是不懂半導體製程的人搞得吧
日本人的話聽聽就好,等實用後再講,如只是嘴砲階段,連參考的價值都沒有!!四片鏡子?!如照相機用一片透鏡也可做出來,但好的相機為何要10幾個透鏡?!消除色像差唄,一個嚴重色像差的光源連狗都嫌,還能用嗎?!別外,色像差是類比的也就是連嬻的,而不是數位的一塊一塊的,你不能說我可利用色像差來一次性處理幾個幾個光罩區塊!!