[기초반도체공정|1.3]

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  • Опубликовано: 25 ноя 2024
  • 반도체 공정중 발생할 수 있는 오염원들(contamination)에 대해 알아보고, 클린룸(cleanroom)에 대한 기본 상식을 배워봅니다.

Комментарии • 9

  • @gogigogi5333
    @gogigogi5333 Месяц назад

    좋은 영상 감사합니다 오늘도 잘 보고 가요~

  • @문서연-x6w
    @문서연-x6w 3 месяца назад

    사람은 정말로 백해무익하다고 배웠습니다. 😂 좋은 강의 감사합니다 교수님!

  • @이성혁-i1w
    @이성혁-i1w 2 года назад +2

    아 ㅋㅋㅋ 교수님 해시태그 센스쟁이!

  • @재꾸래기
    @재꾸래기 2 года назад +2

    공정연구 진행하는 학생인데 좋은 영상 감사합니다~

  • @김주영-d7s
    @김주영-d7s 8 месяцев назад

    좋은 강의 감사합니다 😊😊😊

  • @ummm8834
    @ummm8834 Год назад +1

    안녕하세요 교수님!
    실제 대학교 실험실 같은곳에서 Wafer 캐리어(Shipping box)에 공정이 다 끝나고 소자가 형성된 Wafer를 거의 2달씩 장기간 넣어 Cleanroom에 보관한다면, 이후에 장비로 C-V 커브나 I-V 커브 측정시 보통 큰 문제는 안되는건가요?
    클린룸 강의를 듣다보니 궁금증이 생겨 문의드립니다.
    늘 좋은 강의로 도움주셔서 감사합니다.

    • @DevicePhysics
      @DevicePhysics  Год назад

      어떤 물질이나 구조로 만든 소자이냐에 따라 다릅니다. 공기중의 산소와 반응하는 물질을 사용했다면, 클린룸에 있는 동안에도 소자의 특성이 변할수 있습니다. 이런 경우, 보통 passivation layer를 추가로 증착해서 산소와의 반응을 막아줍니다.

  • @judehey2298
    @judehey2298 5 месяцев назад

    혹시 강의록은 없나요...?

    • @DevicePhysics
      @DevicePhysics  5 месяцев назад

      수강생들에게만 제공하고 있습니다.