매경TEST 시사용어ㅣ마이크로칩 밀도 성장의 법칙, 무어의 법칙

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  • Опубликовано: 12 ноя 2024

Комментарии • 3

  • @서지수-x1k
    @서지수-x1k Год назад +1

    99. 무어의 법칙
    - 23년 3월 24일, 인텔의 창업자 고든 무어(Gordon Moore)가 94세 일기로 영면에 들었다. 반도체 기술 발전에 기여해온 그는 ‘무어의 법칙’으로 유명하다. 화학 및 물리학 박사로 반도체 핵심 개발자였던 무어는 1965년 ‘반도체의 복잡도가 매년 2배씩 증가할 것’이라는 전망을 했다.
    - 반도체는 수많은 트랜지스터로 구성되는데, 같은 면적의 반도체 위에 올라가는 트랜지스터의 수가 2배가 된다는 의미로 생각할 수 있다. 반도체 제조 공정은 무어의 법칙처럼 1999년 180나노미터에서 2001년 130나노미터, 2003년 90나노미터를 거쳐 2020년대에는 5나노미터 이하 수준으로 진보해 왔다.
    - 무어의 법칙은 이론적으로 도출된 것이 아닌 경험법칙일 뿐이며, ‘집적도가 2년에 2배씩 증가한다’고 수정하기도 하였다. 무어의 법칙은 반도체 제조업체들의 생산성이 지속적으로 증가함을 의미하며, 소비자들은 과거보다 더 우수한 성능의 컴퓨터를 더 저렴한 가격에 이용할 수 있게 되었다.
    - 공정의 미세화는 반도체의 소비전력을 감소시켜 유비쿼터스 시대를 열었다. 과거 대표적 모바일 기기였던 PDA는 전자수첩 정도의 기능을 했지만, 오늘날 스마트폰은 인터넷이나 동영상 감상, 게임 등 PC이상의 유용성을 주고 있다.

    - 그러나 미세공정이 심화되면서 무어의 법칙이 한계에 가까워지고 있다. 전류가 이동하는 선폭이 좁아지면서 전자가 회로 선로를 벗어나 다른 곳으로 점프하는 터널링 현상이 발생하는 것이다. 또한 공정 미세화에 따라 반도체 개발비용이 상승해 경제성 측면에서 무어의 법칙이 유지되기 어렵다는 견해도 나오고 있다.
    - 그럼에도 불구하고 반도체 업계에서는 무어의 법칙이 포괄적인 측면에서 아직 유효할 수 있다고 전망하고 있다. 반도체 제조공정과 신소재의 개발로 터널링 문제를 해결하거나 신개념의 트랜지스터를 도입함으로써 불가능하다고 여겨졌던 1나노미터 이하의 선폭을 구현할 수 있다는 것이다.

  • @김민구-p1t
    @김민구-p1t Год назад +4

    제발...