【フォトリソグラフィ】最先端の半導体露光装置が数ナノメートルの表面加工できる仕組み

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  • Опубликовано: 11 янв 2025

Комментарии • 15

  • @gokubinoshiya
    @gokubinoshiya  3 года назад +2

    身近にない技術なので知らない人は全く知らない話かもしれませんが、高価なナノテクノロジーの一つです。
    話ゆっくりなので、倍速などで聞いてください。

  • @hikarun0610
    @hikarun0610 6 месяцев назад

    めっちゃわかりやすい。半導体の積層とかもよくわからないので解説して欲しい

  • @お弁当好き
    @お弁当好き 2 года назад

    話がわかりやすいです。とてもためになりました。

  • @narimei6541
    @narimei6541 Год назад

    とてもわかりやすく説明されていて、とても勉強になりました。今後も見させていただきます。

  • @quadrifogliospa
    @quadrifogliospa Год назад +2

    EUVはレンズでは殆ど屈折しないのではないでしょうか?
    集光、縮小投影には凹面鏡や凸面鏡などの反射光学系が用いられているかと思います。

  • @sai-sw6tu
    @sai-sw6tu Год назад

    めちゃくちゃわかりやすいです。

  • @リリー-t3h
    @リリー-t3h Год назад +1

    15:55
    CO2レーザーは約10000nmですね

  • @pero760
    @pero760 2 года назад

    とても良い説明資料だと思います。ppt等でいただくことは可能でしょうか?

    • @gokubinoshiya
      @gokubinoshiya  2 года назад +1

      ありがとうございます!大丈夫ですよ。
      チャンネル_概要_詳細にメールアドレスがありますので、メールで受け渡しもできます。

    • @pero760
      @pero760 2 года назад +1

      @@gokubinoshiya 高野様、ありがとうございます。お言葉に甘えて頂戴して勉強させていただきます。先ほどメールを差し上げました。なにとぞどうぞよろしくお願いいたします。

  • @トニー-l8o
    @トニー-l8o 2 года назад +2

    数ナノといえばウイルスのサイズに匹敵するが、我々の時代の2.5〜1μmルールからすると夢の様な世界である。

    • @gokubinoshiya
      @gokubinoshiya  2 года назад +2

      コメントありがとうございます!

  • @kosuke3734
    @kosuke3734 Год назад

    ところどころ変な説明やな