기술, 설비과에 간간히 물어보고는 있지만 비전공 생초짜라서 설명을 들어도 한계가 있었는데 채널명처럼 가장 쉽게 설명해주신 덕분에 오늘 현장에서 이것저것 더 눈에 보이는게 많아져서 기뻤습니다!! 현직자에게 물어보려면 최소한의 지식이라도 있어야하는데 그것 조차 없어서ㅠ 앞으로도 꾸준히 잘 보겠습니다. 좋은 영상 감사합니다.
Overlay 보정을 ADI 외에 AEI도 하는데 무조건 노광기 잘못이라고 단정 짓는건 오류가 있다고 생각드는데요.. 스캐너에서 3나노 overlay 잡아도 스피너에서 develop 레시피에 따라 overlay가 더 날 수있고 etch 각도차에 의해서도 overlay 차이가 납니다. 그래서 ADI나 AEI을 통해서 보정값을 주기도 하지요. Etch공정에서 오버레이가 발생하지 않는다면 AEI라는 개념이 필요가 없었겠지요. 또 wafer 와피지 때문에도 발생을 하고..발생요소를 찾아보면 얼마나 많은 요인이 있는데 ‘무조건’이라는 단어는 좀 더 신중히 사용할 필요가 있어 보입니다.
어떤 말씀을 하시는지는 알겠습니다. 다만 현재는 포토공정에 대한 내용을 다루고 있어 etch 이후의 AEI까지 고려한 개념이 아닌 '포토 공정 내에서' overlay에 문제가 발생하는 경우를 말하고 있음을 고려해주시면 좋겠습니다. 또한 ADI에서 CD나 overlay를 측정하는 경우 CD는 다른 장비 영향도 많이 받지만 취준생에게 쉽게 설명하는 입장에서 노광기 이외에 overlay에 영향을 주는 장비는 거의 없다고 봐도 무방하기에 저렇게 설명하였습니다. 현업의 어려운 이론이나 rare한 케이스까지 모조리 설명할수도 없고 어렵게 어렵게 설명하는 것도 제가 운영하는 채널의 모토와는 부합하지 않습니다. 다만 말씀하신 내용처럼 무조건이라는 단어로 오해가 생길 소지를 만든 점에 대해서는 사과드립니다.
Overlay는 공정의 이름이 아닙니다. 포토 공정이 끝난 후에 상부 layer와 하부 layer의 정렬이 얼마나 틀어졌는지를 측정한 값입니다. 멀티패터닝도 종류가 정말 많은데요. 그 안에서 포토 공정이 몇 번 포함되는지도 천차만별이죠. Overlay측정은 포토 공정이 진행될 때마다 측정한다고 생각하시면 크게 무리 없습니다^^
Fcb 신입사원인데 설정 진짜 넘넘 잘 들었습니다. 포토공정 설명 자주 있으면 좋겠네요. 아니면 혹시 어떻게 공부할 수 있을까요? 독립변배 같은 용어는 검색해도 설명도 잘 없고 흑흑
기술, 설비과에 간간히 물어보고는 있지만 비전공 생초짜라서 설명을 들어도 한계가 있었는데 채널명처럼 가장 쉽게 설명해주신 덕분에 오늘 현장에서 이것저것 더 눈에 보이는게 많아져서 기뻤습니다!!
현직자에게 물어보려면 최소한의 지식이라도 있어야하는데 그것 조차 없어서ㅠ 앞으로도 꾸준히 잘 보겠습니다. 좋은 영상 감사합니다.
소리가 넘 작아요 ㅠ 좋은 영상 감사합니다
피드백 감사합니다. 녹음장치의 노이즈를 줄이며 음량이 같이 줄어 작게 들리네요ㅜㅜ 빠른 시일 내에 해결하겠습니다!
Overlay 보정을 ADI 외에 AEI도 하는데 무조건 노광기 잘못이라고 단정 짓는건 오류가 있다고 생각드는데요.. 스캐너에서 3나노 overlay 잡아도 스피너에서 develop 레시피에 따라 overlay가 더 날 수있고 etch 각도차에 의해서도 overlay 차이가 납니다. 그래서 ADI나 AEI을 통해서 보정값을 주기도 하지요. Etch공정에서 오버레이가 발생하지 않는다면 AEI라는 개념이 필요가 없었겠지요. 또 wafer 와피지 때문에도 발생을 하고..발생요소를 찾아보면 얼마나 많은 요인이 있는데 ‘무조건’이라는 단어는 좀 더 신중히 사용할 필요가 있어 보입니다.
어떤 말씀을 하시는지는 알겠습니다. 다만 현재는 포토공정에 대한 내용을 다루고 있어 etch 이후의 AEI까지 고려한 개념이 아닌 '포토 공정 내에서' overlay에 문제가 발생하는 경우를 말하고 있음을 고려해주시면 좋겠습니다. 또한 ADI에서 CD나 overlay를 측정하는 경우 CD는 다른 장비 영향도 많이 받지만 취준생에게 쉽게 설명하는 입장에서 노광기 이외에 overlay에 영향을 주는 장비는 거의 없다고 봐도 무방하기에 저렇게 설명하였습니다. 현업의 어려운 이론이나 rare한 케이스까지 모조리 설명할수도 없고 어렵게 어렵게 설명하는 것도 제가 운영하는 채널의 모토와는 부합하지 않습니다. 다만 말씀하신 내용처럼 무조건이라는 단어로 오해가 생길 소지를 만든 점에 대해서는 사과드립니다.
멀티패터닝으로 작업시 이 overlay공정은 패터닝이 다 끝난 후 1번만 해주는 것인가요? 너무 기초를 물어봐서 죄송하네요.
Overlay는 공정의 이름이 아닙니다. 포토 공정이 끝난 후에 상부 layer와 하부 layer의 정렬이 얼마나 틀어졌는지를 측정한 값입니다. 멀티패터닝도 종류가 정말 많은데요. 그 안에서 포토 공정이 몇 번 포함되는지도 천차만별이죠. Overlay측정은 포토 공정이 진행될 때마다 측정한다고 생각하시면 크게 무리 없습니다^^
오버레이는 위아래 layer간 좌우정렬 아닌가요? 설명주신 상하정렬이라면 cvd나 에치의 성막량과 에치량에 의해 차이나는건데
상부 Layer와 하부 Layer의 어긋난 정도를 비교한다는 것에 초점을 맞추어 상하정렬이라는 표현을 사용했구요. 엄밀히 따지고 들어가면 좌우정렬이라고 표현할 수 있겠습니다. 다만 막의 증착 두께와 Etch로 형성하는 trench의 깊이는 정렬과는 거리가 멉니다