集成电路芯片怎么造?光刻胶用完怎么办-去胶设备

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  • Опубликовано: 12 янв 2025
  • 这期简单讲解了光刻胶用完后该怎么处理
    BGM:From mixkit.co/free-stock-music

Комментарии • 2

  • @ivjjfd
    @ivjjfd 11 месяцев назад +3

    PR Strip 用dry etch的方法只局限於Si base或是不容易被氧化材料。 如果底下材料是會被氧化的東西可能還是要泡丙酮、IPA之類有機溶劑。
    另外Dry etch做PR Strip通常可以跟上一道製程腔體放在一起,通常也是ecth,透過中間也是真空的傳送腔體輸送至製程腔體。

    • @冰雷丶
      @冰雷丶  11 месяцев назад

      谢谢补充细节