1년전 동영상이라 답변해 주실지는 모르겠는데, 저는 PR 제조하는 회사 다녔거든요. 지금 보니깐 photolithography 공정 보고나니 반도체에는 PR이 존재하지 않겠군요..ㅎㅎ 전체 공정 보니 PR이 필수적인 물질인거 같은데 PR 안깔고 바로 에칭할 수 있는 마스크는 개발 할 수 없는건가요? 그럼 공정이 확 줄어들어 단가도 싸질텐데... 아 물론 PR 만드는 회사에게는 안좋겠지만요 ㅋㅋㅋ 답변 혹시 가능하실까요?
1. metal mask 를 이용해서 증착과 동시에 패터닝하는 방법이 OLED 만들 때 이미 사용되고 있습니다. 또한 roll-to-roll imprint 방식도 사용되고 있습니다. 그림을 검색해보면 바로 이해할 수 있을 겁니다. 2. 이러한 방식들은 단가도 싸고 대면적에 쉽게 패터닝할 수 있다는 점은 장점이지만, photolithography 보다는 균일도와 정밀도가 떨어집니다.
그런 강의는 없습니다. 그런 부분은 강의가 불가능합니다. 정확히 어떠한 상황을 알고 싶은것인지 모르겠으나, 열적 효과를 분석하려면 구조적인 분석 (예: 게이트의 두께, 소자를 감싸는 ILD 의 물질 등)이 반드시 필요하기 때문에 단순히 공식을 계산하는 것으로 가능하지 않습니다. 습도도 마찬가지로 일반적인 소자는 패키징 되어 있기 때문에 습도 변화를 겪지 않습니다. 따라서 습도 변화에 따른 소자 특성에 대한 모델이나 분석은 관련 논문을 찾아보아야 할 것 같습니다.
안녕하세요 강의를 듣고 공부하고 있는 학생입니다. 한 가지 여쭈어보고 싶은게 있는데 혹시 해당 영상에서 설명해주신 develop과정에서 빛을 맞지 않은 PR을 제거하는 것을 설명해주셨는데 이때 사용한 PR은 negative PR이 되는 건가요?? 그리고 질 좋은 강의 너무 감사합니다!
Photolithography, also called 'optical lithography or 'EUV lithography', is a process used in microfabrication to pattern parts on a thin film or the bulk of a 'substrate' (also called a 'wafer'). It uses light to transfer a geometric pattern from a photomask (also called an optical mask) to a photosensitive (that is, light-sensitive) chemical photoresist on the substrate. A series of chemical treatments then either etches the exposure pattern into the material or enables deposition of a new material in the desired pattern upon the material underneath the photoresist. In complex integrated circuits, a CMOS wafer may go through the photolithographic cycle as many as 50 times.
자동사는 쉽다고 넘어가는 사람들이 많지만 은근히 자주 헷갈립니다. 자동사와 타동사의 구분이 항상 쉽지만은 않죠. 아래 두 문장 중 어느 문장이 문법적으로 옳은 문장일까요? 좋은 생각이 내게 떠올랐어. 1. A great idea was occurred to me. 2. A great idea occurred to me. Occur는 "자동사"이지만, 사물을 주어로 쓰면 우리는 습관적으로 수동태를 만드는 경향을 보입니다. 하지만 수동태를 만들 수 있는 건 "타동사" 뿐입니다. 그러므로 2번 "A great idea occurred to me."가 맞습니다.
![[기초반도체공정|3.2] #photolithography #light source #resolution #critical dimension #DOF](http://i.ytimg.com/vi/BnjT_Nr_Jvo/mqdefault.jpg)
![[기초반도체공정|3.2] #photolithography #light source #resolution #critical dimension #DOF](/img/tr.png)
![[기초반도체공정|3.3] #photoresist #soft bake #alignment #PEB #develop #hard bake #PR strip](http://i.ytimg.com/vi/5Fq48YJKY2c/mqdefault.jpg)
감사합니다 교수님!! 너무 재밌습니다😊😊
교수님의 강의에는 감동이 있습니다
요약 너무 잘하십니다 감사합니다. 제집중력이 10분인데 짧고 알찬영상 최고입니다
I hope the next lecture will be uploaded asap😊
Thank you always for providing us with great lectures!
강의 감사합니다! 얼른 photolithography를 더 알고 싶어지네요!
감사합니다 재밌게봤습니다!
감사합니다..!
감사합니다…감사합니다…(감동)
과제 하는데 도움 많이 받고 갑니다.
반도체 공정을 듣는데 너무 도움되어 감사합니다 ㅠㅠ 혹시 다음 강의들이 올라오는 주기같은게 있을까요? 좋은 강의 영상 올려주셔서 감사합니다
최대한 빠르게 업로드 하고는 싶은데 다른 일들이 많아서 영상을 만들지 못하고 있습니다. 일정하게 주기적으로 영상을 업로드하지는 못할 것 같습니다.
복 받으세여
1년전 동영상이라 답변해 주실지는 모르겠는데, 저는 PR 제조하는 회사 다녔거든요. 지금 보니깐 photolithography 공정 보고나니 반도체에는 PR이 존재하지 않겠군요..ㅎㅎ
전체 공정 보니 PR이 필수적인 물질인거 같은데
PR 안깔고 바로 에칭할 수 있는 마스크는 개발 할 수 없는건가요? 그럼 공정이 확 줄어들어 단가도 싸질텐데... 아 물론 PR 만드는 회사에게는 안좋겠지만요 ㅋㅋㅋ
답변 혹시 가능하실까요?
1. metal mask 를 이용해서 증착과 동시에 패터닝하는 방법이 OLED 만들 때 이미 사용되고 있습니다. 또한 roll-to-roll imprint 방식도 사용되고 있습니다. 그림을 검색해보면 바로 이해할 수 있을 겁니다.
2. 이러한 방식들은 단가도 싸고 대면적에 쉽게 패터닝할 수 있다는 점은 장점이지만, photolithography 보다는 균일도와 정밀도가 떨어집니다.
@@DevicePhysics답변 감사합니다!
빨간빛이 심리적 불안함을 유발해 옐로우 룸이 된 거였다니...
6:20 소프트베이킹
안녕하세요 교수님..! 교수님의 질높은 강의들이 정말로 많은 도움이 되고 있습니다. 다름이 아니라 PMOS 혹은 NMOS 이 열이나 습도에 의해서 Vth 나 DR range 가 어떻게 변하는지에 대한 강의가 이미 업로드된 영상 중에 혹시 있을까요?
그런 강의는 없습니다. 그런 부분은 강의가 불가능합니다.
정확히 어떠한 상황을 알고 싶은것인지 모르겠으나, 열적 효과를 분석하려면 구조적인 분석 (예: 게이트의 두께, 소자를 감싸는 ILD 의 물질 등)이 반드시 필요하기 때문에 단순히 공식을 계산하는 것으로 가능하지 않습니다.
습도도 마찬가지로 일반적인 소자는 패키징 되어 있기 때문에 습도 변화를 겪지 않습니다. 따라서 습도 변화에 따른 소자 특성에 대한 모델이나 분석은 관련 논문을 찾아보아야 할 것 같습니다.
에칭액 : 패턴 번호
안녕하세요 강의를 듣고 공부하고 있는 학생입니다.
한 가지 여쭈어보고 싶은게 있는데 혹시 해당 영상에서 설명해주신 develop과정에서 빛을 맞지 않은 PR을 제거하는 것을 설명해주셨는데 이때 사용한 PR은 negative PR이 되는 건가요??
그리고 질 좋은 강의 너무 감사합니다!
뒤에 [기초반도체공정|3.3] 강의에 해당 내용이 있으니 참고 바랍니다.
光 十 石板 十 印刷
photo
litho
grapy
4:00 occur은 자동사라 occur로 바꿔주면 좋을 듯 합니다. physical and chemical changes occur when it ~
영상 잘 봤습니다!!
Photolithography, also called 'optical lithography or 'EUV lithography', is a process used in microfabrication to pattern parts on a thin film or the bulk of a 'substrate' (also called a 'wafer').
It uses light to transfer a geometric pattern from a photomask (also called an optical mask) to a photosensitive (that is, light-sensitive) chemical photoresist on the substrate.
A series of chemical treatments then either etches the exposure pattern into the material or enables deposition of a new material in the desired pattern upon the material underneath the photoresist.
In complex integrated circuits, a CMOS wafer may go through the photolithographic cycle as many as 50 times.
자동사는 쉽다고 넘어가는 사람들이 많지만 은근히 자주 헷갈립니다. 자동사와 타동사의 구분이 항상 쉽지만은 않죠. 아래 두 문장 중 어느 문장이 문법적으로 옳은 문장일까요?
좋은 생각이 내게 떠올랐어.
1. A great idea was occurred to me.
2. A great idea occurred to me.
Occur는 "자동사"이지만, 사물을 주어로 쓰면 우리는 습관적으로 수동태를 만드는 경향을 보입니다. 하지만 수동태를 만들 수 있는 건 "타동사" 뿐입니다. 그러므로 2번 "A great idea occurred to me."가 맞습니다.
감사합니다!!!