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謝謝！
謝謝你的支持！
曲博哥好帥❤又專業
這個我覺得好強，LED一堆不是coherent 的光源，光是想怎麼對焦就很頭痛了。更不用說還要在投影平面上保持均勻。
13:12 開始影音不同步
哪一檔可以買，我期待
加油、加油
1x Dyson 算非常成熟的技術，蠻多廠商有相當經驗。請問有細部規格？DoF@1um L/S, Max. field size? WPH@1000 mJ/cm2? Overlay?
沖繩科技大學研發的簡版EUV，會大放異采嗎？因此日本半導體產業遠遠超越台積電可能性如何？
這個我還在找論文看看它用什麼方法，找到了再拍一集來詳細介紹唷！
我有應用的方向，太好了，讚👍
请教LED光源的wave length？
30年前就開始做黃光製程，從來沒聽過“光刻機”！
製程上是否光阻也需要配合此光源更換？
光阻的種類當然會因為波長而不同。
沖繩科技技術大學院大學（OIST）研究團隊開發簡化版 EUV 曝光設備(from technews 8/7)或許可以和他們合作一同開發出 更好更省耗能的技術也 0-0
辉能量产了吗
微影半導體的曝光機所使用的LED光源，必定需要高功率。不知該LED發光元件是否是自己生產？若是，金屬電極的材料是用Al嗎？還是Al-Cu?若是，在高電流下，純Al會有電遷移問題，所以一般會改用AlCu，若是採用蒸鍍製程，常用的是Al2Cu，但基於Al和Cu的蒸氣壓差異，所蒸鍍得到的膜層，銅含量不高。抗電遷移的效能，會隨著AlCu電極薄膜中的含銅量增加而增加。由文獻顯示，4%含銅量效果最好。或許也是因此，優美科有開發生產供應Al4Cu的靶材，用於濺鍍使用。若基於成本考量，或許蒸鍍會比較便宜，故基於此，我們開發了高含銅量的Al-Cu(5N)的蒸發料，且已應用在化合物半導體元件中使用，並商品化。相關實際蒸鍍結果與元件性能參數，也發表於國際期刊。
我認為LED元件不可能自己生產，他們只生產曝光機吧！
這條路很遠很辛苦啊....一二線客戶可能不敢用或驗證期要非常長，同時做一個曝光機Projection鏡頭也是要價不斐，沒有政府的支持錢很快燒完
曲博您好，這家公司以後有打算切入深紫外光甚至極紫外光嗎
@user-dg5bq4op4e 這種LED是瞄準印刷電路板和先進封裝市場，這兩個能做到就很厲害了！DUV或EUV那種高階半導體設備，還不太適合。
台灣已有本土的相關技術
哦！那能不能介紹一下？
政府有看到嗎？半導體產業需要支持，特別是創新研發，新創初期需要支持，才能走過被認證和驗證的經歷！加油！
風電太陽能停車場還沒賺飽，沒空理你。
對位精度可達 ≤ ±10μm(底片對底片±5μm雙面) => 不是做IC 吧
@familystar2008 這種等級只能做封裝，所以台灣的曝光機技術甚至落後大陸呀！我們要好好努力！
有人跟我一樣影音不同步嗎？
沒有哦
半导体设备工艺链太长， 需要太大的投入。 大陆现在半导体设备虽然进步很大，但是还是非常艰难，但是现在大陆的刻蚀机还是非常强悍了，主要在美国的华人才过来搞定的
如果除了ASML 也可以做的出來，那麼華為應該也做的出來
真的非常很有可能
很尷尬，技術不上不下的，節能不會是選型的首選
@soiltaylor5275 你說的對，不過這個設備是可以用來做先進封裝的。
未來如果碳交易落實 應該會很有感
可能業界還好，但這對學術界幫助滿大的，畢竟大家都知道學生做實驗都要對錢斤斤計較的。再來就是成熟製程這種也是削價競爭的市場
@@chenenjoytheluxury2668做先进封装用这个应该不错，可以取代一部分g line和I line
技術再改善 有機會可再上層樓。。。
不要被阿共偷走
如果DoF 不應用在納米級製程，那跟COWAS 的製程穩定貢獻，應該就沒有甚麼幫助，有沒有提到跨入納米級的關鍵問題？這個才是專業面對問題的態度，才是台灣精神。很樂意看到新技術主導掌握在台灣手裡，但是....不管怎麼樣，政府應該有政策支持未來的產業，而不是一直蹭產業自己篳路藍縷發展後的成果。台灣加油！
為什麼DoF不能用在先進封裝呀？
![Noob To Max With DRAGON REWORK In Blox Fruits [FULL MOVIE]](http://i.ytimg.com/vi/LnBMOinoOvA/mqdefault.jpg)
謝謝！
謝謝你的支持！
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加油、加油
1x Dyson 算非常成熟的技術，蠻多廠商有相當經驗。請問有細部規格？
DoF@1um L/S, Max. field size? WPH@1000 mJ/cm2? Overlay?
沖繩科技大學研發的簡版EUV，會大放異采嗎？因此日本半導體產業遠遠超越台積電可能性如何？
這個我還在找論文看看它用什麼方法，找到了再拍一集來詳細介紹唷！
我有應用的方向，太好了，讚👍
请教LED光源的wave length？
30年前就開始做黃光製程，從來沒聽過“光刻機”！
製程上是否光阻也需要配合此光源更換？
光阻的種類當然會因為波長而不同。
沖繩科技技術大學院大學（OIST）研究團隊開發簡化版 EUV 曝光設備(from technews 8/7)或許可以和他們合作一同開發出 更好更省耗能的技術也 0-0
辉能量产了吗
微影半導體的曝光機所使用的LED光源，必定需要高功率。
不知該LED發光元件是否是自己生產？若是，金屬電極的材料是用Al嗎？還是Al-Cu?
若是，在高電流下，純Al會有電遷移問題，所以一般會改用AlCu，若是採用蒸鍍製程，常用的是Al2Cu，但基於Al和Cu的蒸氣壓差異，所蒸鍍得到的膜層，銅含量不高。
抗電遷移的效能，會隨著AlCu電極薄膜中的含銅量增加而增加。由文獻顯示，4%含銅量效果最好。或許也是因此，優美科有開發生產供應Al4Cu的靶材，用於濺鍍使用。
若基於成本考量，或許蒸鍍會比較便宜，故基於此，我們開發了高含銅量的Al-Cu(5N)的蒸發料，且已應用在化合物半導體元件中使用，並商品化。
相關實際蒸鍍結果與元件性能參數，也發表於國際期刊。
我認為LED元件不可能自己生產，他們只生產曝光機吧！
這條路很遠很辛苦啊....一二線客戶可能不敢用或驗證期要非常長，同時做一個曝光機Projection鏡頭也是要價不斐，沒有政府的支持錢很快燒完
曲博您好，這家公司以後有打算切入深紫外光甚至極紫外光嗎
@user-dg5bq4op4e 這種LED是瞄準印刷電路板和先進封裝市場，這兩個能做到就很厲害了！DUV或EUV那種高階半導體設備，還不太適合。
台灣已有本土的相關技術
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政府有看到嗎？
半導體產業需要支持，特別是創新研發，新創初期需要支持，才能走過被認證和驗證的經歷！
加油！
風電太陽能停車場還沒賺飽，沒空理你。
對位精度可達 ≤ ±10μm(底片對底片±5μm雙面) => 不是做IC 吧
@familystar2008 這種等級只能做封裝，所以台灣的曝光機技術甚至落後大陸呀！我們要好好努力！
有人跟我一樣影音不同步嗎？
沒有哦
半导体设备工艺链太长， 需要太大的投入。 大陆现在半导体设备虽然进步很大，但是还是非常艰难，但是现在大陆的刻蚀机还是非常强悍了，主要在美国的华人才过来搞定的
如果除了ASML 也可以做的出來，那麼華為應該也做的出來
真的非常很有可能
很尷尬，技術不上不下的，節能不會是選型的首選
@soiltaylor5275 你說的對，不過這個設備是可以用來做先進封裝的。
未來如果碳交易落實 應該會很有感
可能業界還好，但這對學術界幫助滿大的，畢竟大家都知道學生做實驗都要對錢斤斤計較的。再來就是成熟製程這種也是削價競爭的市場
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技術再改善 有機會可再上層樓。。。
不要被阿共偷走
如果DoF 不應用在納米級製程，那跟COWAS 的製程穩定貢獻，應該就沒有甚麼幫助，有沒有提到跨入納米級的關鍵問題？這個才是專業面對問題的態度，才是台灣精神。很樂意看到新技術主導掌握在台灣手裡，但是....
不管怎麼樣，政府應該有政策支持未來的產業，而不是一直蹭產業自己篳路藍縷發展後的成果。
台灣加油！
為什麼DoF不能用在先進封裝呀？