보관과 운반이 용이하며 반도체 공정 소재로 사용되는 고체 하이드라진 제조 방법 (반도체 원리, 반도체 생산)

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하이드라진은 수화물 형태의 액체이며, 반도체 공정에 활용되는 정밀 화학 소재입니다. 이는 반도체 공정에서 불순물을 제거하고 다듬는 과정에서 활용되고 있습니다. 그러나 액체 하이드라진은 쉽게 증발하거나 산화 반응을 일으켜 안정적으로 사용하기 어렵습니다.
서강대학교 화학과 허남회 교수 연구팀은 운반이 쉽고 정량적으로 사용할 수 있는 고체 형태의 하이드라진 제조 공정 기술을 개발했습니다.
연구팀이 개발한 고체 하이드라진을 이용하여 반도체 식각액을 제조할 경우, 기존의 액체 하이드라진보다 5~10% 더 많은 양의 반도체 식각액 첨가제를 생산할 수 있습니다. 반도체 식각 소재를 고품질 저비용으로 합성할 수 있는 것에 더하여, 고체 형태로써 보관 및 운반이 쉽고 정량적으로 사용할 수 있습니다.
서강대학교 산학협력단은 기술마케팅을 통해 반도체용 정밀화학소재를 양산 및 제조하는 ㈜천보와 고수율 반도체 공정 화학 소재 개발에 대한 기술이전 계약을 체결하였습니다.
고체 하이드라진을 이용한 반도체 식각액은 높은 수율과 순도로 가격 경쟁력 및 제품 경쟁력에서 우수한 강점을 가지고 있습니다. 특히 첨단 전자제품에 필요한 초고순도 반도체 생산에 주요한 역할을 함으로써 세계 반도체 소재 시장에서 우위를 점할 수 있을 것으로 예상됩니다.
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