ASML과 EUV 독점시대, 일본이 깬다? 일본의 5나노급 노광기술 NIL에 대해
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- Опубликовано: 23 ноя 2023
- 나노임프린트리소그래피시스템 일본 캐논에서 내놓은 차세대 노광장비의 이름입니다.
재밌는 사실은 이 새로운 캐논의 노광장비는 레거시 시장이 아닌 최선단 공정 시장을 정조준하고 있다는 것 정말 뜬금 없지만 캐논이 밝히고 있는 해당 장비로 구현 가능 공정의 수준이 5nm급 이라는 것인데요
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![[엔비디아의 도전자들 - 인텔 편] 루나레이크의 등장, 인텔이 TSMC의 파운드리를 활용하면 벌어지는 일. 인텔 파운드리, 폰테베키오, 가우디, 그리고 이종접합 시대의 비전.](http://i.ytimg.com/vi/MK60ACuWO7U/mqdefault.jpg)
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항상 빠른시장 분석에 감사드립니다!!
노광장비 캐논 NIL 신기하며 매력적이네요.
일본에 미국 반도체기업들도 많이 투자를 했다고 하네요.
행복한 주말 보내세요 정훈님!
항상 감사한 마음으로 영상 시청중입니다. 겨울철 날씨 추우니 감기 조심하셔서 건강 잘 챙기시기 바랍니다. 감사합니다.
감사합니다 khstn님!
고맙습니다 ^^ 항상 멋진 영상 감사드려요~~
다만, 수율과 정밀도가 이슈겠네요.
저렴한 가격을 무기로 레거시에 이용하자면 아날로그쪽 활용이 많을테니, 공정 variation이 기본적인 이슈일테고,
디지털로 보면 5nm까지 된다고는 하지만, 멀티 패터닝이라서 도달 가능한 한계 수치라고 보면 수율 저하 이슈가 없을 수 없을듯합니다.
사실 잉크젯 기술이 아무리 좋다고 하더라도 이것도 물리적인 기술이다보니 문제 발생의 여지도 많을테고요
다른 무엇보다 보수적인 부분에서는 가장 보수적인 기업들이 공정전환이라는 모험을 할지도 관전 포인트일듯합니다.
와 정말 미래가 흥미진진 해지네요! 역시나 가젯님의 컨텐츠는 최고중 최고입니다.!!
놀랍네요. 2007년에 학교 수업에서 발표했던 나노임프린트 기술이 상용화 된다니, 이제는 버려진 기술이 아닌가 했는데 죽어가던 캐논이 이걸 해내네요. 그리고 개인적으로 여러번 방문했던 키옥시아가 양산을 한다니 더욱 흥미롭습니다.
오늘도 양질의 영상 올려주셔서 감사하고, 목이 안좋으신데 건강도 잘 챙기시길 바랍니다.
와~ 현업자이신가 보네요.
2007이라는 숫자를 보는 순간
아...역시 일본답구나
안되는 기술부여잡고
이것만하면 한방에 세카이 이치방으로 등극할 필살기를 찾는 일본 종특 말이죠
인크젯기술로 OLED 디플을 인쇄하든 뽑아내겠스므니다 하더니...
전고체는 토요타가 남바왕이므니다 이거 나오면 항코쿠노 빳때리 다 잡스므니다하는데 그래서 언제? 이거 뿐인가요?
수십년 동안 개발중인 일본 제트엔진 세라믹 코아만 끼얹으면 출력이 3배로 뛰어 유키가제가 되어 미국 최강 F22를 씹어 먹는다던 게 그러고도 20년간 감감 무소식입니다
일본애들은 뭐랄까 기술 판타지같은 게 있습니다
@@Matou-Sakura네 답글 감사하네요. ㅎㅎ 전에는 Fab에서 공정엔지니어로 일했고, 지금은 smart manufacturing software 쪽에서 일하고 있습니다.
볼륨이 적당한 크기로 맞춰진거 같네요! 감사합니다. 잘 봤습니다. 강추강추
좋은 정보 감사합니다. 👍
너무 좋은 방송입니다😊
멋진 정보 감사합니다.
한국 더 힘들어 질 수도 있겠네요. 한국도 힘든 시간 잘 버텨서 다시 세계의 기업들과 경쟁 했으면 하네요. 좋은 주말 되세요.
증착 공정과 소재기술 관련 이야기도 궁금해요 가젯님~ 늘 감사히 보고있습니다ㅎㅎ
항상 좋은 정보 감사합니다.
행복한 주말 보내세요 머신헤드님!
최근 뉴스에 나와서 궁금했던 기술이었는데 잘봤습니다 감사합니다
좋은 영상 잘보겠습니다
즐거운 주말되세요 😊
지노님도 즐거운 주말 보내셔요 ^^ 이번주도 감사해요
매번 훌륭한 영상이 올라오는군요
오늘도 좋은 정보 감사드립니다
새로나오는 asml euv 3800 시스템이랑 3600 은 차이가 있을까요?
그리고 또 차세대 exe장비도 나온다 하는데 캐논이 잘따라갈수 있을려나요
잉크젯기술이라니 아이디어가 좋네요 아이디어를 구현하는것도 대단하고
블라인드에서 현직자들이 이걸 언급햇엇나보네요. 매번 좋은 영상 이해 잘 되게 설명해주셔서 감사합니다
왕감사!
대단하세요~
참 많은 생각을 하게 되네요
에구... ㅠㅠ
목소리가 쉬신 것 같아 가슴이 아픕니다.
건강하십시요!!!
항상 일본을 얕봐선 안되죠 ^^
ㅜㅜ 일주일이 다 되었는데 낫지를 안네요 따뜻한메세지 감사합니다!
나노임프린팅 오랜만에 다시 듣네요. 포토 노광기를 대신할 수 있을지 궁금해집니다... 딱 20년전 도시바 요카이치와 도시바 오이타에 이와는 관계없는 다른 소재/부품 공급했었는데, 요카이치가 지금의 키옥시아 낸드 공장이 된거군요 ㅎㅎ
목소리 너무 좋아요~
Asml이 독점하고 서방권끼리 상부상조하는게 불안했는데 경쟁자가 나타나면 더 좋을것 같네요. 수율이나 경제성이 궁금하네용
저게 문제는 EUV보다 개발 난이도가 낮다는 겁니다. 중국이 EUV 개발에는 10년이상 걸려도 저건 10년 이내에 개발을 할 수도 있는거고 NIL로도 메모리 반도체는 한계 선단까지 얼마든지 만들수 있고 거기서 d램 반도체가 적층방식으로 가봐야 낸드 꼴 나는거구요~ 따라서 메모리 반도체가 주요 수출품인 우리나라는 큰 타격을 받을거 같습니다.
일본 반도체 업체들이 tsmc 삼성 인텔 sk하이닉스 등등에 비해 ASML 장비 수입이 늦어진 상황에서 자국산 반도체 노광장비를 자체수급해 수율을 잡는다면...뭐 결과는 몇년 뒤에 나오겠지만요..
일본은 진짜 대단한 것 같다. Euv 말고도 다른 돌파구를 찾네
@@user-rk3lr3xg8z내수용 반도체 장비 ㅋㅋ.. 그렇게 되면 일본 반도체 사업 자체를 잡아 먹을 독이 든 성배가 되겠네요
연구용과 양산품... 수율 극복은.....미지수.
다만, TSMC 의 일본내 선단공정 인프라에 일본이 50%를 지원하기로 했는데....
그 곳에서 이걸 적용해가며 양산화 수율을 뽑아내지 않을까 하는... 그냥 지원하는 건 없을테니...
@@investa2 혹여 잘나가다가도 지진 한번 오면 개박살 날 운명인데 일본에 반도체 공장을 짓는게 맞는 판단이었는지 이것도 나중 가봐야 알 듯
@@guglilmovicario 세상사 인간사 인생사는 확률, 비중,비율로 봐야하지 않겠습니까?^^
그 관점 아니라면 '다들 언젠가 죽는데 뭘 그리 할려고?' 가 무.조.건.정답일 수도 있어서^^
최근 최선단 공정은 대만에서 가져가겠다던 tsmc가 오사카 쪽에 3나노를 짓겠다고 일본측과 얘기나옵니다.
미국측 IRA 세부지침때문에, 일본은 기존 발표에 최선단은 없었죠.
근데...
무얼 의미할까요?
지진은 상수임에도......
획률, 비중, 비율로 읽으면
리스크와 기회는 함께 보일 수도^^
5나노가 결코 첨단이 아닌게 아니라 그 수준에 수율나오면 중소업체들에게 큰 변화가 일어 날 듯. 엄두가 안나던 걸 사볼까하는 기업들이 많아질 듯 하네요
중소업체는 5나노를 못하는데요
반도체 공장 하나 짓는데 20조 필요한데 중소가 어케함ㅋㅋㅋㅋㅋㄴㅋㅋㅋㅋ
중국 반도체도 시리즈로 좀 딥하게 다뤄주시면 좋을것같아요
캐논.. 카메라랑 렌즈 그리고 인쇄기까지 광학이미지 기술 근본인 제조사로 알고 있는데 반도체 장비도 내놓은게 흥미롭군요
반도체 회로 공정이 마치 3D 프린터랑 비슷하네요
행복한 한주 보내세요 용성님!
삼성이 asml지분 줄인게 이것때문일수도 있겠네요
페러다임의 변화가 있어야할 듯한 시기네요
나노미터가 예전과 다르게 제한이 많고
서플라이 체인에서 스펨핑과 레진이 한정적이나
핍렛이 패케징으로 나가면 1-2 세대전
가성비가 높은 공법이 대세가 되어
NIL이 대중화가 될지도
말만들어보면엄청기대가되네요
오랜만에 댓글 남기네요!
오늘도 감사합니다😊
행복한 한주 보내세요 ^^
감사합니다. NIL 가성비 좋을듯 한데 중국이 탐낼수도 있겠어요. ^^
이번 감기는 정말 최악질 같아요
가볍게 넘어가길 바래드립니다
오늘도 잘 배워갑니다
감사합니다~
공감합니다 ㅜㅜ 너무 강력하네요 이번감기
행복한 한주 보내셔요 ^^
반도체는 기술축적이므로 기존 파운드리 강자들의 주목을 끌긴 어렵지 않을까요? 보수적인 반도체 세계에서 재료 하나를 바꾸는 것 조차 아주 어려운데 제조 방식을 바꾼다는건 거의 불가능에 가까울거 같아요. 어떻게 될 지 지켜봐야겠지만 큰 변화가 있을까요? 국가정책으로 키옥시아가 생산공정에 도전하거나 혹 SMIC라면 관심을 보일수도..
결국은 가격과 수율이 결정하겠죠
뭐 장비는 지금도 ArF 멀티패터닝으로 쓰는 데도 있고, 심자외선으로 7나노 찍는데도 있고 그냥 대세대로 EUV로 찍는데도 있습니다. NIL은 디램이나 낸드쪽에 좋다던데 하이닉스같은데는 좋다고 쓰겠죠.
돈만 되면 바꾸는 건 한순간임
구형이라도 대단하고
나노까지 계속 기술개발한게 더 대단하네
오 이런 기술도 있군요
어서 결과물을 보고싶네요
행복한 한주 보내세요 이뮤닉님!
가젯서울 항상 응원합니다!
행복한 한주 보내세요 민티저님!
NIL은 상용화하기엔 너무 단점이 많고 발전이 필요한 공정이라고 배웠는데, EUV의 난도와, throughput, 그리고 너무 비싼 장비 가격탓에 NIL의 장점이 두드러지네요!! 기대됩니다!!!
단점이 구체적으로 무엇인가요?
Canon의 새로운 최첨단 반도체 제조장치의 nano-imprint 노광장치(NIL)는 2023년 10월 13일부터 판매, 5nm까지의 반도체가 제조할 수 있는, Canon의 nano-imprint 노광장치(NIL)의 메리트는 ASML의 EUV 노광장치와 비교해 소비 전력을 90% 감소, 반도체 제조 코스트를 40% 감소, 노광장치의 크기를 30% 감소, 판매 가격은 40% 감소입니다.Canon는 2025년에 2nm까지의 반도체 제조를 할 수 있는 nano-imprint 노광장치(NIL) 개발하고 판매 예정입니다.
Canon의 nano-imprint 노광장치(NIL)의 문제점은, 미립자, 미세 쓰레기를 제조 과정으로 혼입시키지 않도록 클린 룸을 유지하는 것입니다.
마스크 오염
저거 2d로는 패턴 제작 가능하다해도 3d구조에서 imprint는 어찌 구현 가능한가요?
oled jd 생각나는 기술인듯
잘보고갑니다.
Joled에서 밀던 잉크젯 프린팅 말씀하시는 거라면 저도 딱 그거 생각나더라고요. 문외한 입장에서 보자면 디스플레이도 결국 업체에서 입만 화려하게 털다가 파산했다보니 더한 정밀도가 요구되는 선단공정에 적용이 가능할까? 하는 의구심밖에 안 듭니다만은.... 그래도 본문에서 말씀하신 것처럼 꺼진 불도 다시 보는 정신으로 업계 종사자분들께서 잘 대처하시길 바라야겠습니다.
잉크젯 프린탕을 결국은 수율 문제로 실패했기에 nil도 지켜봐야 될 듯 싶습니다.
삼성과하이닉스가 사용한다면 소재는 누가 납품할지 궁금합니다
레진이 잘떨어져야할것같네요. 막혀서 안떨어지면 유지관리힘들겠다 ㅋㅋㅋ
NIL 서플라이 체인에 OLED INVAR MASK 제작 업체들이 있는게 놀랍네요. NIL을 활용한 엣칭을 검토한 걸까요..
감기 걸리셨는지 목소리가 안좋으시네요. 독감이 유행인데 감기 조심하시고 항상 건강하세요!
덕분에 유익한 영상으로 알찬 시간이 되었습니다.
항상 감사합니다.
행복한 한주 보내세요 성완님!
임프린팅을 위한 마스크 제작은 어떻게 하나요? 정밀한 에칭을 못 하니 EUV로 그림을 그리는건데, 갑자기 에칭 공정 간략화를 위해 에칭패턴보다 훨씬 정확한 암푸란탕 마스크를 뭔가로 깎아낸다...라?
포토마스크와 마찬가지로 기판에 패턴을 노광하고 에칭해서 만듭니다. 최소한 EUV 포토마스크로 노광하면 만들 수 있는 것으로 보입니다. (즉 임프린팅 몰드 만드는 용도로 ASML 노광기를 들여올 수 있습니다)
@@blueite 그래서 닭이먼저냐 계란이먼저냐 이슈가 생기고, 더 우월한 공정으로 가긴 쉽쟎다는 생각입니다.
@@DaddyBrownbr 물론 어렵습니다만 닭이 먼저냐 계란이 먼저냐까지는 아닌 게, 어느 쪽이든 처음에는 레이저나 전자빔으로 패턴을 하나씩 새겨 포토마스크를 새기는 데서 시작합니다. 차이는 포토마스크를 바로 쓰냐 아니면 포토마스크로 다른 몰드를 만드냐이고요. 개인적으로는 어려운 걸 넘어 불가능에 가깝다는 느낌을 받지만 속단은 금물이죠.
@@blueite 그래서 생각해 봐야 한다고요. AMSL의 방법은 웨이퍼에 감광제를 바르고 식각하고 도핑하고 연마하는 방법을 반복하는데, 임프린팅 방법은 그걸로 물리적인 몰드를 깎아내야 하는데 AMSL 방법보다 양산은 쉽겠으나 몰드를 만드는 비용은 엄청날 것이고, 대량생산이 아니라면 수율이나 원가 확보조차 쉽지않을거라는겁니다. 그래서 과연 그게 용이하겠느냐 라는 겁니다.
아주 쉬운 예를 드리면, CD레코더로 공시디를 굽는것은 AMSL의 방법이고, 유리기판에 홈을 파서 음반CD를 압인하는건 캐논의 방법인데, 첫째 그게 용이하겠냐 둘째 압인할 몰드를 만들 때 AMSL의 EUV레이저 식각을 안 할 수 없으니 닭이냐 계란이냐 문제가 존재한다 라는 겁니다.
@@DaddyBrownbr 위에 썼듯이 저 개인적으로는 EUV 직접노광과의 경쟁은 불가능에 가깝다고 생각하고 있습니다. 다만 캐논의 컨셉트가 어디까지나 포토레지스트의 패터닝 방법에 한정되어 있고 (당연히 EUV 직접노광보다 성능이 우월하다는 주장도 하지 않습니다. 있을 수 없거든요) 그 제한된 ASML 노광기 수급의 틈새를 파고드는 것이기 때문에 닭과 달걀같은 순환논리까지는 안간다는 말씀을 드립니다.
갓젯서울형~ 덕분에 좋은 정보 알고 갑니다. 하지만 문돌이 출신이어서 잘은 모르겠네여 허허~
오늘도 감사해요 Sjyoon님!
매우 신기한 방법이네요, 이거 진짜 반도체를 프린팅 하는 느낌이군요. 이론상은 좋은데 이런 방식을 선단공정에서 실현한다는게 매우 어려울것 같아요
경쟁은 좋은것
일본이 8년 걸려서 확보한 수율과 관련 생태계가 과연 빛을 보게 될지 궁금하네요
일본의 기술력이면 더 잘 만들 듯.
경쟁자가 있어야지 독점이라서 초 바가지 가격이었지요.
켄셉좋고 가능성 풍부하고 다 좋은데 실제 구현해보면 뭔가 한두 가지가 미흡한
그런 기술일 듯 잉크젯 OLED처럼
예전 선폭이 넓은 리소장비는 니콘 캐논 장비 많이 쓰고 있습니다
Photo 공정에서 일 하고 있지만, 과연 상용화가 가능한 기술인지 의문이 드는 점이 좀 있네요.
이미 8년간 테스트를 하고서 시장에 내놓는 기술이라 하니, 제가 뭐라 할 문제는 아니겠지만..
1. PR 도포 후 베이크 진행 없이 노광을 진행하는데 PR 내 SOLVENT 성분은 어떻게 날리는지 ??
2. 물리적 압인을 통하려면 현재의 MASK 형태가 아니라 WAFER 통째로 찍어낼 만한 MASK가 필요할텐데, 그 고도화된 MASK 제작은 가능한지??
3. 섬세한 PR 도포를 위한 판 형태의 노즐로 보이는데 이 점과 PR Particle 문제는 제어가 되는지??
쓰고 보니 엄청 부정적인 문제점만 생각하고 있기는 한데 가능만 하다면 기존 TEL의 TRACK 장비도 엄청나게 바뀌게 되고, 생산성에 대한 속도도 빨라질 것 같기는 하네요.
댓글 읽다보니 저도 궁금해지네요, 처음에는 그냥 물리적으로 미세도포 자체가 어려운거 아닌가 고민했는데 다시 생각해보니 가능하긴 하겠네 생각했는데, 도포는 차치하고서라도 말씀하신 부분이 더 문제가 되겠군요.
궁금했던 부분인데 현업자가 아니여서 감이 없었는데 전문가다운 댓글 감사합니다.
대박이네요 진심
7나노 5나노 된다면 대박입니다
전력소모가 10분의1 이라니 역시 일본 아직 살아있네요
노광장비가 전력소모가 어마어마한데
가격도 싸고 초대박입니다
NIL같은 물리적인 방법이 될거였으면 메탈마스크 방식으로도 진작에 됐을것 같네요... 초미세 몰딩은 어떻게 만들지도 궁금
몰드 만드는 것 자체는 문제가 안됩니다. 패턴 정렬과 몰드 떼어내는 과정에서 생기는 결함이 문제죠.
몇개월 전에 일본은 캐논에서 ASML의 노광장비에 필적하는 새로운 노광장비를 개발했다고 보도됐는데 이젠 출시가 되는 건지.. 그리고 한국에서는 노광장비에 대한 개발할 기업이 없는 건가요.
수율을 잡았다고 볼 수 있는걸까요?
라피더스 회장이 TSMC, 삼성과 경쟁하는게 아니라 그들에게 맡길 수 없는 소량 다품종에 대응하는게 목적이라고 했던걸 보면
27년 목표 자체가 수율을 어느 정도 포기한 발상으로 말하고 있는게 아닐까...그러니까 한마디로 정부의 예산 없이는 굴러갈 수 없는 형태로라도 일단 가지고 싶다라는 의미로 해석했는데
라피더스 방향이 그렇다면 캐논도 수율 안잡힌 상태로 그냥 발표했을 가능성이 있지않을까 싶은데요.
레티클 대신 쓰이는 임프린팅용 마스터…제작 비용과 수명을 따져봐야겠네요.
우리나라는 이런 반도체 장비 못만드나요. 궁금합니다
하단 밸류체인 내에 몇 기업이 있긴하지만 완제품 시장 진입은 쉽지 않아보이네요 ㅜ
확실히 방심할수 없는 나라 아닌가 싶음 ㅡㅡ
수율에 문제가 없을수가 있나..? 진짜면 asml주가 엄청떨어질듯
잘 반영되서 오르는 중입니다^^
Asml 독점좀 깨주면 좋겠다
ASML의 EUV장비의 대체품인 쿼크 광학장비.
1.미세한 그림을 그리려면 미세한 붓이 필요하다.
2.쿼크는 미립자로 가장 작은 입자이다.
3.쿼크로 작은 미세회로를 그리면 된다.
4.쿼크로 감광약에 충돌시켜서 미세회로를 그리고 반도체를 설계하는 회로도를 그려 넣으면 된다.
5.질량이 철과 같은 크기의 무게인 쿼크도 있으니 충돌식으로 그림을 그려넣으면 된다.
김도헌 올림.
양산성이 확보되었나요..?
영상 ai로 만드나요?
음성도 영상도 ai같네요
아닙니다. 핀마이크 음질보다 좀더 좋은 음질로 서비스 하기 위해 영상 촬영 후에 컨덴서 마이크로 후시녹음을 해보고 있습니다.
OLED도 그러다가 접었죠.
일단 로직에는 힘들고 디램이나 낸드에서나 가능할수도 있음
근데 이것도 썩....
우리나라에는 노광기술 개발하는 회사가 없나요??? 궁금하네
원천기술 백지국가주제 똥싸라 싸
저거 해당 회사 직원말로는 파티클 이슈가 너무 많은 방법이라 박리다매로 판매예정이라고 하네요
중국이 사들이기 시작하면 미국이 가만히 안 있을 것 같네요
Dev이 생략된다면 혁신인데
미래는 광학이 아니라 전자의 굴절을 이용해서 반도체를 생산해야 할 듯
일본의 약진이 대단하기도 한 한편 무섭시도 하네요..
말씀에 공감합니다. 꺼진불도 다시보는 마음으로...
힘들다고 본다.
하... 부자는 망해도 3년은 먹을 것이 있다더니... 저게 양산이 가능하다는 가정하에 일본이 조용히 한방을 준비하고 있었네요...
나와봐야 알지요 뭐.
반도체 같이 복잡한 업계에서 특정 업체, 특정 장비의, 단편적 기술 정보로 앞으로 업계 판도를 판단하기는 거의 불가능 합니다.
그나마 노광기 업계는 플레이어가 매우 제한적이니 게중에 한 업체의 움직임이 다른 업계 보다 영향을 더 끼칠 수 있을 뿐.
Canon이 시장 진입을 검토 가능한 시점에서 2~5나노 공정이 여전히 최선단 노드일까 생각해보면 아니지요.
따라서 근미래의 특정 시점에서도 지금과 같은 중저가기를 생산하겠다는 전략에 다름 아니라 봅니다.
더이상 선폭 미세화로만은 대응이 어려워지는 1나노 이후 시대에,
ASML과 캐논/니콘 어느 업체의 개발 방향이 반도체 업계의 결론과 맞아떨어지는가는,
Luck 7 Tech 3
삼성전자가 ASML 지분을 처분한게 관계가 있을까요?
더빙하셨나요?! 오늘 뭔가 부자연스럽네요 ㅋㅋㅋㅋ
후시 녹음 해보고 있어요 ^^
NiL (나노 임프린트) 공정이 제 아무리 5 nm 패터닝이 가능하다 해도 양산검증이 안된, 그리고 이것 하나 도입하면 인접 수많은 공정을 다 바꿔야 하는데.. 현행 반도체 공정에선 채택할 미친 넘은 없을 겁니다. 그냥 이것도 되더라 보여주고 수명을 다할 듯 싶습니다. ^^
일본내 TSMC 선단공정 공장에 도입해볼려고 하지 않을까요. 미친 국가 아니고서는 TSMC 가 자국 선단인프라 구축에 50%를 지원하진 않을테니...
@@investa2 5nm NiL 공정을 유일하게 적용해볼 수 있는 반도체 분야가 마스크 패턴 형성 공정이지 않을까 싶습니다. 아주 옛날에 마스크 패턴 형성은 Quartz glass 에 Cr Oxide코팅을 한 다음, 포토 노광공정을 통해 Cr Oxide를 패터닝을 하여 마스크 패턴을 형성했습니다. 이렇게 형성된 마스크 패턴을 반도체 제조공정에서 노광장치의 여러개의 렌즈를 통해 선폭을 축소시켜 Silicon wafer에 전사했습니다. 즉 마스크 패턴 폭 >> 실리콘 웨이퍼의 소자 패턴 폭입니다. 따라서 3-7 nm Tech node의 반도체 공정에 사용되는 마스크 패턴은 3-7 nm 보다 훨씬 클 겁니다. 그리고 마스크 패턴 형성 공정은 반도체 본 공정과 완전히 별개 공정으로 마스크 패턴만 형성해주는 업체가 따로 있습니다. 이런 마스크 제작업체에서 마스크 패턴 형성 기법으로 NiL을 검토해볼 수는 있을 것 같습니다. 삼성전자, TSMC나 SK하이닉스와 같은 반도체 제조 공정에서는 적용이 불가능하다고 생각됩니다.
얼마전에 짤막하게 뉴스로 EUV없이 캐논이 2나노 노광장비 개발중이란걸 보기는 했는데.
원천기술이 이렇게나 중요하구나...
흠...그냥 EUV 쓰는게 낫겠네요
high na장비인가 이거 3천억받긴 어렵겠넹 ㅋㅋㅋ
임프린팅 기술은 이미 일본이 디스플레이 생산에 접목 하려다 실패, 사장된 기술인데 반도체 전공정에 도입해 유의미한 기술 향상을 이뤄 내었네요 역시 이들의 장인정신이란...ㄷㄷㄷ
장인정신?풋 일본을 너무 후하게 우대하지 맙시다.좀만 뭐하면 장인정신.
참고로 난 반일은 아닙니다.장인정신이런거 없어요.사무라이 때부터 내려온 반강제 직업이지.
일본의 장인정신은 대단하죠
@@user-pg7fq9jb4v 그게 반일입니다 ^-^
@@user-pg7fq9jb4v반일은 아니라도 열등감이지
반일정신병 ㄷㄷㄷㄷ뻘건색 태양만 봐도 발작함😂
경쟁 제품은 좋은 소식인 듯
그러나 중국 자체 개발 눙력이
과소 평가 됐었을 수도
스프레이처럼 패턴을 프린팅하겠다는건데 대량생산엔 장점이 있겠으나 상식적으로도 프린팅하면서 불량율이 엄청 날거 같고 공정미세화에도 문제가 많을듯 보이네요. 빛이 패턴그리는덴 훨신 장점이 많을듯....... 비싸긴하지만.....
체널명과 내용이 차이가 있네요
맞습니다. 처음엔 돈이 없어서 제품을 못 구해서 못했고 지금은 돈이 부족해서 못하고 있습니다.
일본의 장인정신이 미세공정에서 드뎌 다시 빛울 보는가? 하이튼 죽다 살지어찌될지 몰지만 일본도 참 대단함
별로 의미있는 물건이 될것같지않습니다... 다시 한번 보자는 얘기는 있겠지만...
딴거 팔요없고 수율이 얼마나 나오냐가 핵심이지
부자는 망해도 3년은 간다더니.
일본 반도체는 망해도.
기반 중소 업체들이 아직은 살아 있어서
뭔가 해볼 수는 있군요.
통짜로 판 깔았다가 식각하는 공정에 비하면 엄청 간단하네..
오호... 일본이 한방을준비하나 보군요
'선단'은 일본이 상용한자 제한 때문에 바꿔 쓰는 것이고 한국어에서는 '첨단'이 맞습니다.
일본에서는 한자로는 '선단', '첨단' 둘 다 씁니다.
@@user-lv7xv6fc2u '첨단'을 드물게 쓰기는 하지만 상용한자에 없다 보니 빈도가 극히 낮지요. 한국어에는 '선단'은 원래 없는데, 일본 텍스트를 번역하다가 슬그머니 물든 사례로 볼 수 있겠습니다.
@@blueite 그런데 그 한국어라는 것도, 근대 일본어를 기반으로 한 것 아닌가요?
@@user-lv7xv6fc2u '첨단'이라는 표현은 중국쪽 아닌가 싶습니다만 차치해 두고, 현대 일본에서 최대한 근접한 한자로 대체해 썼다고 해도 '첨'과 '선'은 같은 의미가 아니지요. 굳이 따라갈 이유는 없다고 생각합니다.
@@blueite 같은 의미 맞는 것 같은데요..
Canon의 새로운 최첨단 반도체 제조장치의 nano-imprint 노광장치(NIL)는 2023년 10월 13일부터 판매, 5nm까지의 반도체가 제조할 수 있는, Canon의 nano-imprint 노광장치(NIL)의 메리트는 ASML의 EUV 노광장치와 비교해 소비 전력을 90% 감소, 반도체 제조 코스트를 40% 감소, 노광장치의 크기를 30% 감소, 판매 가격은 40% 감소입니다.Canon는 2025년에 2nm까지의 반도체 제조를 할 수 있는 nano-imprint 노광장치(NIL) 개발하고 판매 예정입니다.
혹시 실물 이미지 AI로 만드신 건가여
어떤 이미지 말씀이신지요?
@@GadgetSeoul 아 서울님 상반신 나오는 장면에서 몸 움직임이랑, 말씀하실때 소리 싱크 같은 게 좀 어색하게 느껴져서요
ASML 독점이 깨지면 좋은 거지 뭐.
그나저나 저런 거 우리는 못 만드냐.
삼성 혹은 대한민국의 반도체 큰 그림이 궁금해집니다.